CHINA Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Noticias de la empresa

El origen de los reguladores de presión de gas se puede rastrear a los mediados del siglo XIX con el desarrollo de dispositivos para controlar y para regular flujo y la presión del gas en diversos usos. Los reguladores de presión tempranos de gas fueron utilizados sobre todo en los sistemas alumbrados de gas, que eran frecuentes durante ese tiempo.   Uno de los pioneros notables en el desarrollo de los reguladores de presión de gas era Robert Bunsen, químico alemán e inventor. En los 1850s, Bunsen inventó la hornilla de Bunsen, un mechero de gas ampliamente utilizado en laboratorios. La hornilla de Bunsen incorporó un mecanismo rudimentario del regulador de presión para controlar el flujo del gas y para mantener una llama estable. En un cierto plazo, como utilización del gas ampliada en diversos industrias y usos, la necesidad de una regulación de presión más avanzada y más exacta de gas se presentó. Esto llevó al desarrollo de reguladores de presión más sofisticados de gas con los mecanismos de control mejorados.   Los reguladores de presión modernos de gas que vemos se han desarrollado hoy a través de adelantos en la ingeniería, materiales, y técnicas de fabricación. Incorporan características tales como diafragma o los mecanismos de control, los sensores de la presión, y las características pistón-basados de la seguridad para cumplir los requisitos diversos de diversos industrias y usos.   Hoy, los reguladores de presión de gas son producidos por varios fabricantes por todo el mundo, especializándose en diversos tipos y tamaños para abastecer a las necesidades específicas. Estos reguladores experimentan procesos de la prueba rigurosa y de la certificación para asegurar su funcionamiento, confiabilidad, y conformidad con estándares de seguridad.   Total, el origen y el desarrollo de los reguladores de presión de gas se puede atribuir a la demanda el aumento para el flujo controlado del gas y a la presión en diversas industrias, desarrollándose de mecanismos básicos a los dispositivos sofisticados que confiamos el hoy.

Las industrias necesitan hoy en día cada vez más utilizar los gases ultraaltos de la pureza, y muchas compañías comenzaron a investigar y fabricar las válvulas usadas para regular los gases de gran pureza, tan hay una válvula de control de presión. Los materiales usados en esta válvula de regulación están de alta calidad, incluyendo las colocaciones del diafragma hechas de Hastelloy y el cuerpo de válvula entero hecho de 316L de acero inoxidable. La prueba continua ha dado lugar a un regulador de presión con las colocaciones del VCR para el funcionamiento de aislamiento apretado, el control de presión exacto, el control de flujo exacto, los requisitos ultraaltos de la pureza, la resistencia a la corrosión, la confiabilidad y la estabilidad. Hoy en día, la gama del uso de reguladores de presión de la ultra-alto-pureza es también muy ancha, y sus mercados del uso están como sigue Industria del semiconductor: La industria del semiconductor tiene requisitos muy estrictos para los gases ultraaltos de la pureza, y los reguladores de presión ultraaltos de la pureza desempeñan un papel dominante en el proceso de fabricación del semiconductor. Se utilizan para controlar y para regular la presión de los gases de gran pureza (tales como nitrógeno, hidrógeno, argón, etc.) usados en la fabricación del semiconductor para asegurar condiciones de proceso estables y calidad óptima de la producción.   Industria fotovoltaica: En la industria (solar) fotovoltaica, los reguladores de presión ultraaltos de la pureza se utilizan para controlar y para regular la presión de los gases usados en el proceso de fabricación. Por ejemplo, en la fabricación de células solares, donde los gases se utilizan para limpiar y para tratar superficies, los reguladores de presión de UHP se aseguran de que una fuente constante de gases esté proporcionada así como control de presión apropiado. Productos farmacéuticos y ciencias de la vida: La demanda para los gases ultraaltos de la pureza es también alta en los sectores farmacéuticos y de las ciencias de la vida. Los reguladores de presión de UHP se utilizan en procesos farmacéuticos para controlar y para regular la presión de gases para asegurar la seguridad y la estabilidad del proceso farmacéutico. Además, se utilizan en el equipo de laboratorio y con fines de investigación.   Laboratorio e investigación científica: Los reguladores de presión de UHP son ampliamente utilizados en laboratorios y la investigación científica controlar y regular la presión de gases. Si está en un laboratorio de química, una investigación de la física o una ciencia material, los reguladores de presión de UHP son un pedazo de equipo dominante en asegurar la exactitud y confiabilidad de los procesos experimentales y de la investigación.   Los reguladores de presión de la pureza ultra elevada se utilizan en la industria del semiconductor en una proporción significativa de los muchos mercados del uso. Pues el proceso de fabricación del semiconductor tiene requisitos muy estrictos para los gases de la pureza elevada, los reguladores de presión ultraaltos de la pureza desempeñan un papel vital en la industria del semiconductor. En el proceso de fabricación del semiconductor, los reguladores de presión de la ultra-alto-pureza se utilizan para controlar y para regular la presión de los gases de gran pureza (e.g., nitrógeno, hidrógeno, argón, etc.) para asegurar condiciones de proceso estables y calidad óptima de la producción. Hay varias razones por las que los reguladores de presión ultraaltos de la pureza componen la porción más grande de la industria del semiconductor: Requisitos del gas de la pureza elevada: El proceso de fabricación del semiconductor requiere la pureza extremadamente elevada de los gases usados. Las impurezas o los contaminantes minúsculos pueden tener un impacto serio en el funcionamiento y confiabilidad de los dispositivos de semiconductor. Los reguladores de presión ultraaltos de la pureza proporcionan un suministro de gas de la pureza elevada, asegurándose de que la pureza del gas no es afectada por la contaminación o las impurezas.   Requisitos de proceso de la estabilidad y de la consistencia: La fabricación del semiconductor es un proceso altamente exacto y estable donde está crítico el control exacto de la presión de gas. los reguladores de presión de la Ultraalto-pureza proporcionan salida de presión estable y el ajuste exacto de la presión de gas para asegurar consistencia y el control de los parámetros de proceso del semiconductor.   Respuesta rápida y control altamente exacto: Ciertos pasos en el proceso de fabricación del semiconductor requieren ajustes rápidos de la presión de gas en un corto período de tiempo, mientras que al mismo tiempo requieren control altamente exacto. los reguladores de presión de la Ultraalto-pureza cumplen estos requisitos especiales con respuesta rápida y control de alta precisión.   Confiabilidad y seguridad: La industria del semiconductor exige los niveles más altos de confiabilidad y de seguridad del equipo y de sistemas. los reguladores de presión de la Ultraalto-pureza se fabrican típicamente con los materiales de alta calidad y los procesos de fabricación avanzados, proporcionando confiabilidad y seguridad excelentes para cumplir los requisitos rigurosos de la industria del semiconductor.   En resumen, los reguladores de presión ultraaltos de la pureza son ampliamente utilizados en la industria del semiconductor, cubrir principalmente la demanda para los gases de gran pureza, proporcionar control de proceso estable, asegurar alta exactitud y respuesta rápida, y proporcionar altos requisitos de la confiabilidad y de seguridad. Estas características hacen los reguladores de presión ultraaltos de la pureza un dispositivo dominante imprescindible en el proceso de fabricación del semiconductor. El precio de mercado de hoy del regulador de presión de la ultra-alto-pureza es muy diferente de cielo y tierra, de la calidad de bueno y de malo, y de la necesidad de este producto, un cierto cuidado sobre el precio, un cierto cuidado sobre la calidad, pero la mayor parte de la preocupación sigue siendo calidad y precio. Nuestra marca es AFKLOK propia fábrica, el producto también hizo mucha prueba finalmente consiguió buenos resultados, tan en el precio así como la calidad que tenemos una ventaja, nosotros puede substituir las otras marcas, el futuro también conseguiremos mejores y mejores.

Diferencia entre el alto y los índices del flujo bajo de reguladores del gas de la pureza elevada: Los altos reguladores del flujo se diseñan típicamente para manejar los flujos de un gas más alto, generalmente en litros por el minuto (l/min) o metros cúbicos por la hora (³ de m /h). En cambio, los reguladores del flujo bajo son convenientes para gamas más bajas del flujo del gas, generalmente en mililitros por el minuto (mL/min) o litros por la hora (l./h). Diseño de válvulas del regulador de presión para los gases ultraaltos de la pureza: Diseño de la válvula: Los altos reguladores del flujo utilizan típicamente válvulas y pasos más grandes para manejar flujos más grandes del gas. Estas válvulas pueden requerir pistones más grandes, diafragmas, u otros elementos de control flúido alcanzar la regulación exacta del flujo. Los reguladores del flujo bajo, por otra parte, utilizan válvulas y pasos más pequeños para acomodar requisitos más bajos del flujo.   Gama de presión de reguladores de presión ultraaltos de gas de la pureza: Los altos reguladores del flujo tienen típicamente una gama de presión más ancha y pueden manejar presiones más altas de la entrada y reducirlas a presiones más de baja producción. Los reguladores del flujo bajo pueden tener una gama de presión relativamente estrecha para presiones más bajas de la entrada y alcanzar una gama de presión más pequeña de la salida.   Dimensiones externas de los reguladores de presión de gas de la Ultraalto-pureza: Porque los altos reguladores del flujo se requieren para manejar flujos más grandes del gas, tienen típicamente dimensiones de externo más grandes y pesos más pesados para acomodar mayor dinámica de fluidos. En cambio, los pequeños reguladores del flujo pueden ser más compactos y ligeros para espacio-obligado o las aplicaciones móviles.   Áreas del uso para los reguladores de presión de gas de la ultra-alto-pureza: Los altos reguladores del flujo son de uso general en los usos que requieren un alto flujo del suministro de gas, tal como control de proceso industrial y equipo de laboratorio grande. Los reguladores del flujo bajo se utilizan en los usos que requieren flujos más bajos y un control más exacto, tal como analizadores del laboratorio, investigación científica, etc.   Teoría de operación de los reguladores de presión de gas de la Ultraalto-pureza: Los reductores de presión de gas de la pureza elevada utilizan típicamente una válvula ajustable y un sensor de la presión. Cuando el gas de alta presión entra en el reductor de presión, la válvula ajusta automáticamente el interruptor para reducir la presión a la presión deseada de la salida basada en el valor determinado de la presión.   Los reductores de presión de gas de la pureza totales, elevados son ampliamente utilizados en la fabricación del semiconductor, la optoelectrónica, la industria fotovoltaica, la nanotecnología, la investigación del laboratorio, y otras áreas donde se requieren los gases de la pureza elevada. Se utilizan para controlar la presión de gas y para fluir para cumplir proceso específico y requisitos experimentales.

Ate el equipo del tratamiento del gas puede manejar los gases usados en grabar al agua fuerte procesos de los procesos y de la deposición de vapor químico en el semiconductor, el cristal líquido, y las industrias de energía solar, incluyendo SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, CO, NF3, SF6, C2F6, WF6, NH3, N2O, y así sucesivamente. Método de tratamiento del gas de escape Según las características del tratamiento del gas de escape, el tratamiento se puede dividir en cuatro tipos de tratamiento: 1. Tipo que se lava del agua (tratamiento de gases corrosivos) 2. Tipo oxidante (ocupándose de los gases combustibles y tóxicos) 3. Adsorción (según el tipo de material de la adsorción a ocuparse del gas de escape correspondiente). tipo de la combustión 4.Plasma (todos los tipos de gas de escape se pueden tratar). Cada tipo de tratamiento tiene sus propias ventajas y desventajas así como su alcance del uso. Cuando el método de tratamiento es lavado del agua, el equipo es barato y simple, y puede manejar solamente los gases solubles en agua; la gama del uso del tipo que se lava del agua eléctrica es más alta que la del tipo del lavado del agua, pero el coste de operación es alto; el tipo seco tiene buena eficacia del tratamiento, y no es aplicable al flujo del gas que es fácil ser estorbado o ser fluido. Las sustancias químicas y sus subproductos de uso general en la industria del semiconductor se pueden categorizar según sus propiedades químicas y sus diversas gamas: 1. Gases inflamables tales como SiH4H2, etc. 2. Gases tóxicos tales como AsH3, PH3, etc. 3. Gases corrosivos tales como HF, ácido clorhídrico, etc. 4. Gases de efecto invernadero tales como CF4, NF3, etc. Desde los cuatro gases antedichos sea dañino al ambiente o al cuerpo humano, debe prevenir su emisión directa en la atmósfera, así que la planta general del semiconductor está instalada con un sistema de tratamiento centralizado grande de gas de escape, pero este sistema es solamente extractor de limpieza del agua, así que su uso se limita a los gases solubles en agua de larga distancia, y no puede ocuparse de la división siempre cambiante y sutil del gas de escape del proceso del semiconductor. Por lo tanto, es necesario seleccionar y hacer juego el equipo correspondiente del tratamiento del gas de escape según las características del gas derivadas de cada proceso para solucionar el problema del gas de escape de una pequeña manera. Mientras que la zona de trabajo está sobre todo lejos del sistema de tratamiento central de gas de escape, a menudo debido a la ventaja de las características del gas a la acumulación de la cristalización o del polvo en la tubería, dando por resultado la obstrucción de la tubería que lleva a la salida del gas, y en casos serios, incluso causar una explosión, no puede asegurarse de que la seguridad del trabajo del personal del sitio. Por lo tanto, en la necesidad del área de trabajo de configurar un pequeño equipo del tratamiento del gas de escape conveniente para las características del gas de proceso, para reducir el gas de escape estancado en el área de trabajo, para asegurar la seguridad de personales.

Hay una amplia variedad de gases encontrados dentro de un laboratorio farmacéutico o médico. Muchos no tienen ningún gusto, color u olor, que hacen difícil decir si un escape del gas está presente. Un escape del gas de un cilindro o de un sistema de gas fijo del tubo plantea un riesgo de la serie que pueda causar un incidente o un peligro potencialmente fatal dentro de un ambiente del laboratorio.   La industria farmacéutica es una de las industrias de más rápido crecimiento del mundo. La mayor parte de los ingresos de ventas que genera entonces se reinvierten en el área de la investigación y desarrollo de nuevos productos. La investigación y desarrollo utiliza una amplia gama de gases y de equipo de la especialidad. Los instrumentos analíticos tales como cromatografías de gas, cromatografías líquidas y espectrómetros todas confían en el nivel apropiado de entrega del gas para actuar eficazmente.   Estos gases farmacéuticos y médicos se fabrican específicamente para la fabricación, y las industrias médicas, farmacéuticas de la biotecnología. Los utilizan con frecuencia para sintetizar, esterilizar, o aísle los procesos o los productos que contribuyen a la salud humana.   Los gases farmacéuticos también son inhalados por los pacientes en una técnica conocida como terapia del gas. Los gases usados para la atención sanitaria humana son controlados estrictamente por la legislación y estándares industriales para no empeorar la fisiología humana.   Los gases encontraron dentro de un laboratorio Helio El helio (él) es un gas muy ligero, inodoro e insípido. Es también uno de los 6 gases nobles (helio, neón, argón, criptón, xenón y radón), supuesto porque no reaccionan con otros elementos y por lo tanto no pueden enlazar con otros átomos para formar compuestos complejos. Esto le da un perfil de seguridad fuerte y un uso potencial en varias aplicaciones. Debido a su helio unreactive de la situación es de uso frecuente como gas portador en laboratorios. El helio tiene muchas aplicaciones más allá su la mayoría común de llenar los globos y su papel dentro del sector farmacéutico y de la biotecnología es inestimable. Es el más ampliamente utilizado del laboratorio en el enfriamiento de imanes dentro de funciones de las máquinas sin embargo que también se utiliza a través de una amplia gama de áreas médicas incluyendo respiratorio, de la cardiología, de la radiología y del cryology de MRI.   Argón El argón (AR) es también un gas noble con las propiedades no-reactivas. Además de su uso bien conocido en las luces de neón también se utiliza a veces en los sectores médicos y de la biotecnología. Es el gas inerte preferido para el uso dentro de las líneas de Schlenk y las cajas de guantes en caso de que el nitrógeno pueda reaccionar con los reactivo o el aparato y pueda también ser aplicaciones son el gas portador en cromatografía de gas y espectrometría de masa electrospray. En productos farmacéuticos y medicina puede también ser utilizado en el empaquetado de donde el nitrógeno puede estar en conflicto y también en cryosurgery y en los lasers usados para los defectos de soldadura y de corrección vasculares del ojo.   Nitrógeno Aunque no un gas noble como el nitrógeno del helio o del argón (n) sea también de uso general en la industria farmacéutica debido a sea propiedades reactivas relativamente no- en muchos procesos diferentes y usos. Laboratorios sobre todo para controlar la atmósfera para el equipo altamente sensible y los procedimientos. El gas del nitrógeno se aplica para controlar niveles, humedad, y temperatura del oxígeno en el equipo de laboratorio incluyendo las incubadoras de la célula, las cajas secas, las cajas de guantes, y los espectrómetros de masas.

1. ¿Para qué provee de gas el regulador de presión de gas del VCR es conveniente? Los reguladores de presión de gas del VCR son convenientes para los gases peligrosos y ultraaltos de la pureza.   2. ¿Cuáles son los gases peligrosos para los cuales el regulador de presión de gas del VCR es conveniente? Los gases peligrosos comunes y la información relacionada son: Amoníaco (NH3): El amoníaco es una sustancia química común ampliamente utilizada en fertilizantes agrícolas, refrigerantes, agentes de limpieza y procesos industriales. Cloro (Cl2): El cloro es una sustancia química de uso general para la desinfección, el blanqueo, el tratamiento de aguas y la fabricación de otras sustancias químicas. Dióxido de carbono (CO2): El dióxido de carbono es un gas común usado como agente de carbonatación en el sector de los productos alimenticios y de las bebidas, así como en la soldadura, la lucha contra el fuego y otros usos industriales. Hidrógeno Cyanide (CNH): El cianuro de hidrógeno es un gas altamente tóxico usado en metalurgia, síntesis orgánica y la fabricación del pesticida. Sulfuro de hidrógeno (H2S): El sulfuro de hidrógeno es un gas altamente maloliente y tóxico de uso general en la industria del petróleo y gas y otros procesos industriales. Cloruro de hidrógeno (ácido clorhídrico): El cloruro de hidrógeno es un gas con un olor irritante y es de uso general en la fabricación de sustancias químicas, de metales de limpieza, y de niveles de regulación del pH. Nitrógeno (N2): El nitrógeno es un gas inerte de uso general proteger y ambientes inertes de la reacción, así como para la prueba de la contención y de presión del gas. Oxígeno (O2): El oxígeno es un gas esencial de uso general en la industria médica, el corte de gas, la soldadura y los procesos de la combustión.   3. ¿Características del regulador de presión de gas del VCR? REGULACIÓN DE LA ALTA EXACTITUD: El regulador de presión de gas del VCR utiliza un mecanismo de regla exacto que proporcione la regulación de presión altamente exacta de gas. Esto hace útil en los usos donde el control exacto del flujo y de la presión del gas se requiere, por ejemplo en la investigación del laboratorio, la fabricación de la precisión y el análisis de gas. Confiabilidad y estabilidad: Diseñado para la regulación estable a largo plazo del gas, los reguladores de presión de gas del VCR son capaces de proporcionar funcionamiento confiable bajo condiciones de funcionamiento diversas. Se construyen típicamente usando los materiales y la ejecución de alta calidad para asegurar la operación confiable durante largos períodos de tiempo y para minimizar el riesgo de salida y de fracaso. Opciones de conexión múltiples: Los reguladores de presión de gas del VCR están típicamente disponibles con una variedad de opciones de conexión acomodar diversa instalación de tubos de gas y requisitos de sistema. Las opciones de conexión comunes incluyen VCR metal-sellaron las colocaciones, conexiones ensanchadas, y las conexiones roscadas, haciendo la instalación y la integración del regulador flexible y fácil. Amplia gama de la ajustabilidad: Los reguladores de presión de gas del VCR tienen típicamente una amplia gama de ajustabilidad para acomodar diversos requisitos de la presión. Si la regulación de presión alta o baja está requerida, proporcionan la solución apropiada. Características de la seguridad: Los reguladores de presión de gas del VCR se equipan a menudo de una variedad de características de la seguridad para asegurar la operación segura del sistema. Estas características pueden incluir la protección de sobrepresión, la protección de la sobreintensidad de corriente, la protección de sobrecalentamiento y la detección de escape para minimizar el riesgo de peligros potenciales y de accidentes. Ajustabilidad: Los reguladores de presión de gas del VCR son típicamente ajustables, permitiendo que el usuario fije y ajuste la presión a las necesidades específicas. Esta ajustabilidad hace el regulador conveniente para diversos escenarios del uso y los requisitos de proceso.   4. ¿El ambiente en el cual el regulador de presión de gas del VCR está montado? Los reguladores de presión de gas del VCR están montados en cuartos limpios de asegurar limpieza y de ayudar a mantener la integridad y el funcionamiento del regulador de presión de gas del VCR.   5. ¿Cómo los reguladores de presión de gas del VCR trabajan? Entrada del gas al regulador: El gas entra en el regulador de presión de gas del VCR a través de una línea de conexión. La entrada está conectada generalmente con una fuente del gas. Detección de la presión: Dentro del regulador hay un elemento de detección de la presión, generalmente una primavera o un diafragma. Pues el gas entra en el regulador, el elemento de detección de la presión se sujeta a la presión de gas y genera una fuerza correspondiente. Equilibrio de fuerzas: La fuerza del elemento de detección de la presión se equilibra contra un mecanismo de regulación dentro del regulador. Este mecanismo consiste en generalmente una válvula y un carrete de regulación. Operación de válvula de regulación: Dependiendo de la fuerza del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se abrirá o se cerrará por consiguiente para ajustar la presión del gas que atraviesa el sistema. Cuando la fuerza de los aumentos del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se cierra, disminuyendo el flujo del gas y así bajando la presión de sistema. Inversamente, cuando la fuerza en las disminuciones del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se abre, aumentando el flujo del gas y aumentando la presión de sistema. Estabilización de la presión: Continuamente ajustando la abertura de la válvula, el regulador de presión de gas del VCR mantiene una presión constante del gas que atraviesa el sistema. El regulador ajustará en tiempo real según las necesidades para asegurarse de que sigue habiendo la presión de gas en el sistema dentro de una gama predeterminada.

En la fabricación del semiconductor, los gases hacen todo el trabajo y los lasers consiguen toda la atención. Mientras que los lasers hacen modelos del transistor del grabado de pistas en el silicio, el grabado de pistas que primero deposita el silicio y analiza el laser para hacer los circuitos completos es una serie de gases. No es de extrañar que estos gases, que se utilizan para desarrollar los microprocesadores con un proceso gradual, están de pureza elevada. Además de esta limitación, muchos de ellos tienen otras preocupaciones y limitaciones. Algunos de los gases son criogénicos, otros son corrosivos, y otros siguen siendo altamente tóxicos.   Cosiderándolo todo, estas limitaciones hacen los sistemas de distribución de fabricación del gas para la industria del semiconductor un considerable desafío. Las especificaciones materiales están exigiendo. Además de especificaciones materiales, un arsenal de la distribución del gas es un arsenal electromecánico complejo de sistemas interconectados. Los ambientes en los cuales están montados son complejos y traslapo. La fabricación final ocurre en sitio como parte del proceso de instalación. Ayudas de soldadura orbitales para cumplir los altos requisitos de la distribución del gas de la especificación mientras que hace la fabricación en los ambientes apretados y desafiadores más manejables.   Cómo los gases se utilizan en la industria del semiconductor   Antes de intentar planear la fabricación de un sistema de distribución del gas, es necesario entender por lo menos los fundamentos de la fabricación del semiconductor. En su base, los semiconductores utilizan los gases para depositar los sólidos cercano-elementales en una superficie de una manera altamente controlada. Estos sólidos depositados entonces son modificados introduciendo los gases adicionales, los lasers, los etchants químicos, y calor. Los pasos en el proceso amplio son:   Deposición: Éste es el proceso de crear la oblea de silicio inicial. Los gases del precursor del silicio se bombean en una cámara de la deposición de vacío y forman las obleas de silicio finas con interacciones químicas o físicas.   Fotolitografía: La sección de la foto refiere a los lasers. En el espectro ultravioleta extremo más alto de la litografía (EUV) usado para hacer los microprocesadores más altos de la especificación, un laser de dióxido de carbono se utiliza para grabar al agua fuerte el conjunto de circuitos del microprocesador en la oblea.   Aguafuerte: Durante el proceso que graba al agua fuerte, el gas del halógeno-carbono se bombea en la cámara para activar y para disolver los materiales seleccionados en el substrato de silicio. Este proceso graba con eficacia el conjunto de circuitos impreso por laser sobre el substrato.   Doping: Éste es un paso adicional que cambia la conductividad de la superficie grabada al agua fuerte para determinar las condiciones exactas bajo las cuales el semiconductor conduce.   Recocido: En este proceso, las reacciones entre las capas de la oblea son accionadas por la presión y la temperatura elevadas. Esencialmente, concluye los resultados del proceso anterior y crea el procesador concluido en la oblea.   Cámara y línea limpieza: Los gases usados en los pasos anteriores, grabando al agua fuerte y dopando especialmente, son a menudo altamente tóxicos y reactivos. Por lo tanto, la cámara del proceso y las líneas de gas que la alimentan necesitan ser llenadas de los gases de neutralización para reducir o para eliminar reacciones dañinas, y después ser llenadas de los gases inertes para prevenir la intrusión de cualquier gas contaminante del ambiente exterior.   Los sistemas de distribución del gas en la industria del semiconductor son a menudo complejos debido a los muchos diversos gases implicados y el control apretado del flujo, de la temperatura y de la presión del gas que se debe mantener en un cierto plazo. Esto es complicada más a fondo por la pureza ultraalta requerida para cada gas en el proceso. Los gases usados en el paso anterior deben ser enjuagados de las líneas y de las cámaras o ser neutralizados de otra manera antes de que el paso siguiente del proceso pueda comenzar. Esto significa que hay un gran número de líneas especializadas, interfaces entre los sistemas del tubo y las mangueras soldados con autógena, interfaces entre las mangueras y los tubos y los reguladores del gas y sensores, así como los interfaces entre todos los componentes y sistemas previamente mencionados de las válvulas y del aislamiento diseñados para evitar que la contaminación de la tubería del suministro de gas natural sea intercambiada hacia fuera.   Además, el exterior del recinto limpio y los gases de la especialidad serán equipados de los sistemas de suministro de gas a granel en ambientes del recinto limpio y áreas confinadas especializadas para atenuar cualquier peligro en caso de salida accidental. La soldadura de estos sistemas de gas en un ambiente tan complejo no es ninguna tarea fácil. Sin embargo, con cuidado, la atención al detalle y el equipo derecho, esta tarea se puede lograr con éxito.   Sistemas de distribución de fabricación del gas en la industria del semiconductor Los materiales usados en sistemas de distribución del gas del semiconductor son altamente variables. Pueden incluir cosas como los tubos y las mangueras PTFE-alineados del metal para resistir los gases altamente corrosivos. El material más común usado para la tubería de fines generales en la industria del semiconductor es 316L el acero inoxidable - una variante de acero inoxidable con poco carbono. Cuando se trata de 316L contra 316, 316L es más resistente a la corrosión intergranular. Esto es una consideración importante al ocuparse de una gama de gases altamente reactivos y potencialmente volátiles que puedan corroer el carbono. Lanzamientos de acero inoxidables de soldadura 316L menos precipitados del carbono. También reduce el potencial para la erosión del límite de grano, que puede llevar a la corrosión crateriforme en soldaduras y zonas afectadas de calor.   Para reducir la posibilidad de la corrosión aflautada que lleva a la línea de productos corrosión y contaminación, el acero inoxidable 316L soldado con autógena con el argón puro que protege los carriles herméticos a los gases de la soldadura del gas y del tungsteno es el estándar en la industria del semiconductor. El único proceso de soldadura que proporciona el control necesario para mantener un ambiente de la pureza elevada en la instalación de tubos del proceso. La soldadura orbital automatizada proporciona solamente el control de proceso repetible necesitó terminar la soldadura en la fabricación de los sistemas de distribución del gas del semiconductor. El hecho que incluyó las cabezas orbitales de la soldadura puede acomodar haber apretado y los espacios difíciles en las intersecciones complejas entre las áreas de proceso es una ventaja significativa del proceso. La tecnología Co., Ltd de Shenzhen Wofei, con más de 10 años de experiencia en la fuente de gases industriales y de la especialidad, de materiales, de sistemas de suministro de gas y de ingeniería del gas para el semiconductor, los mercados del LED, de la COPITA, y de TFT LCD, podemos proveer de usted los materiales necesarios traer sus productos a la vanguardia de la industria. Podemos no sólo proporcionar una amplia gama de válvulas y de colocaciones para los gases electrónicos de la especialidad del semiconductor, pero también diseñamos la instalación de tubos de gas y la instalación de equipo para nuestros clientes.

la válvula de diafragma neumática es un tipo de válvula que utilice el aire comprimido para actuar un diafragma flexible para controlar el flujo de líquidos o de gases. La válvula consiste en un cuerpo, un diafragma, y un actuador neumático que controle el movimiento del diafragma. El principio de trabajo de válvula de diafragma neumática: (1) suministro de aire: El aire comprimido se suministra al actuador neumático de la válvula, que está conectada con el diafragma. movimiento del diafragma (de 2): El actuador neumático mueve el diafragma hacia arriba o hacia abajo, dependiendo de la dirección del flujo de aire. Este movimiento abre o cierra la válvula, permitiendo o restringiendo el flujo de líquido o de gas a través de la válvula. señal de control (de 3): El actuador neumático es controlado por una señal de un sistema externo del regulador o de control, que regula la cantidad de aire suministrada al actuador y controla así la posición del diafragma. control de flujo (de 4): Ajustando la posición del diafragma, la válvula de diafragma neumática puede controlar el flujo de líquido o de gas a través de la válvula. Cuando el diafragma está en la posición abierta, se restringe o se para el líquido o el gas atraviesa la válvula, y cuando el diafragma está en la posición cerrada, el flujo.   Las válvulas de diafragma neumáticas son de uso general en una variedad de usos, incluyendo el tratamiento químico del proceso, de los productos farmacéuticos, de la comida y del bebida, y de aguas, donde está crítico el control de flujo confiable y eficiente. Se saben para su confiabilidad, durabilidad, y facilidad del mantenimiento.

La presión es uno de los parámetros importantes en la producción industrial. La medida y el control correctos de la presión es un vínculo importante para asegurar la buena operación del proceso de producción y para realizar la producción de alta calidad, alta, el bajo-consumo y la producción segura. Por lo tanto, la detección de presión está consiguiendo cada vez más la atención. 1. ¿cuál es el indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto es uno lo más frecuentemente de los indicadores de presión entrados en contacto con al lado de los calibradores grassroots debido a su variedad, modelos completos y amplia gama de usos. El nivel general de la exactitud es 1.0-4.0, especialmente en la medida y el control de calderas, de recipientes del reactor o de tuberías de la presión. El indicador de presión se utiliza generalmente conjuntamente con las retransmisiones correspondientes, los contactores y otros dispositivos eléctricos para realizar el control automático del sistema medido de la presión y del propósito de la alarma de la señal. En el curso de uso diario, los indicadores de presión tendrán diversos problemas y los malfuncionamientos debido a la vibración, el aceite, el desgaste y la corrosión, los etc., que requieren mantenimiento y la calibración oportunos.   ¿Principio de funcionamiento de indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto consiste en un indicador de presión del tubo de la primavera equipado de un contacto eléctrico. Además de la indicación in situ, también se utiliza para señalar la presión que excede límites. El principio de medida de la presión se basa en el sistema de medición en el tubo de la primavera bajo la presión del medio medido para forzar el extremo del tubo de la primavera para producir la deformación elástica correspondiente (dislocación), a través del engranaje fijo en el indicador será el valor medido de la indicación en el dial; al mismo tiempo, conduzca el contacto para producir la acción correspondiente (cerrada o abierta), de modo que el sistema de control del voltaje en el circuito con./desc., para alcanzar el propósito de la alarma del control automático y de las instrucciones in situ.   3. ¿Calibración del indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto es realmente un interruptor del circuito actuado por el indicador de presión. Es apenas un indicador de presión ordinario del tubo de la primavera, adaptado con el dispositivo eléctrico de la señalización del contacto. La calibración de la parte a presión es lo mismo que la del indicador de presión ordinario. La diferencia con el otro indicador de presión es la reacción después de conexión. Cuando mirada que verifica, la primera en la exactitud de su presión, y entonces mira la sensibilidad de su reacción de la conexión. Por lo tanto, la verificación se divide en dos pasos: (1) parte a presión del valor de fines generales de la calibración del indicador de presión; (2) la parte eléctrica, después de que se califique la calibración del valor de la demostración, el dispositivo eléctrico de la señalización del contacto se debe calibrar bajo presión y su funcionamiento de la conexión se debe comprobar con un multímetro.   4. ¿Calibración de la pieza a presión del indicador de presión eléctrico del contacto? El método de la comparación es un método común para calibrar el indicador de presión. El indicador de presión estándar y el indicador de presión medido están instalados en el mismo nivel del indicador de presión del pistón o del calibrador de la presión. Después de que el pistón se llene del fluido operante (aceite del transformador) y se descarga el aire interno, la válvula de aguja en la taza de aceite se cierra para formar un sistema cerrado; la presión del fluido operante sacado puede ser cambiada girando el volante de dirección en el pistón del tipo indicador o calibrador del pistón de presión. Impulsión hidráulica del fluido operante, de modo que el mismo nivel de indicador de presión estándar y del indicador de presión a ser sincronización medida de la presión y cambios iguales; el indicador de presión estándar y el indicador de presión que se medirá para comparar el valor indicado.  

El proceso de producción de los gases electrónicos de la especialidad incluye varios procesos tales como síntesis, purificación, relleno, análisis y prueba, mezcla y proporciónar. Para cumplir los requisitos de fabricación del semiconductor rio abajo para el contenido de la pureza y de impureza, el proceso de la purificación es muy importante. Dependiendo de la composición del gas de síntesis por aguas arriba o del gas crudo, se realiza la destilación de la baja temperatura o la purificación gradual.   Altos requisitos de la limpieza El proceso de la preparación de gases especiales electrónicos se puede dividir en dos bloques importantes de preparación y de purificación por aguas arriba de la síntesis, que pertenece al proceso de producción químico. El tamaño de la tubería de la producción es grande, y no hay requisito especial del nivel de limpieza. Después de la purificación rio abajo, el producto se llena del gas y se mezcla para la preparación. La tubería de la producción es pequeña y tiene requisitos del nivel de limpieza. Necesita resolver la especificación estándar del proceso de fabricación del semiconductor. Altos requisitos de aislamiento Debido a su actividad química, los gases electrónicos de la especialidad también ponen altas demandas en los materiales y el aislamiento del sistema del proceso de producción. Apenas como los requisitos de la fabricación del semiconductor, previene la salida del interfaz causada por la introducción de impurezas o la corrosión de gases especiales. El sistema se puede también utilizar para prevenir la introducción de impurezas o la salida del interfaz causada por la corrosión de gases especiales.   Requisitos de alta calidad de la estabilidad La calidad de los gases electrónicos de la especialidad incluye varios indicadores tales como contenido de la partícula de la pureza y de la impureza. Cualquier cambio en los indicadores afectará a los resultados del proceso de fabricación rio abajo del semiconductor. Por lo tanto, para asegurar la consistencia de los indicadores especiales electrónicos del producto del gas, el sistema del proceso de la preparación para controlar la estabilidad de los indicadores es también muy importante.     Debido a los requisitos químicos del EGP, el sistema de producción para la preparación del EGP, especialmente el sistema rio abajo de la actividad y de calidad de la purificación, debe cumplir los requisitos de los materiales de la pureza elevada, del alto lacre, de la alta limpieza y de la consistencia de alta calidad, y la construcción de componentes dirigidos debe cumplir los estándares de la industria fabril del semiconductor. Como qué nos referimos comúnmente la “pureza elevada” es teóricamente la definición de la pureza de una sustancia, tal como gases de la pureza elevada, sustancias químicas de la pureza elevada, sistemas de proceso del etc. o los componentes de sistema del proceso que se aplican a las sustancias de gran pureza también se refieren como de gran pureza, por ejemplo sistemas de gran pureza y válvulas de gran pureza. Los sistemas electrónicos de la preparación del gas de la especialidad requieren las colocaciones del uso de la pureza elevada, las válvulas, y otros componentes flúidos, es decir, las colocaciones y las válvulas que se procesan con los materiales de la pureza elevada y los procesos de fabricación limpios, y se estructuran para la purga y la limpieza fáciles. Con alto funcionamiento de aislamiento. Estos componentes flúidos se diseñan para resolver la trayectoria del flujo de proceso del uso, usando los requisitos de la ingeniería y de la construcción de la industria del semiconductor.   Conexiones de tubería de la pureza elevada Las conexiones del sello de cara de la junta del metal del VCR y las conexiones automáticas de la soldadura de extremo de la guía son ampliamente utilizadas en los requisitos flúidos exigentes del proceso de la pureza del sistema debido a la capacidad de resolver la transición suave de la trayectoria del flujo en la conexión, ninguna zona del estancamiento, y las altas conexiones del lacre performance.VCR forman un sello superficial estrecho sacando una junta relativamente suave del metal. Se asegura el funcionamiento repetible y constante de la conexión y del aislamiento cada vez que se quita y se substituye la junta deformada.   Los tubos se sueldan con autógena usando un sistema de soldadura orbital automático. El tubo es protegido por el gas de la pureza elevada por dentro y por fuera. El electrodo del tungsteno gira a lo largo de la órbita para la soldadura de alta calidad. La soldadura orbital completamente automatizada derrite el tubo sin la introducción de otros materiales, alcanzando una soldadura de alta calidad en varias ocasiones controlando el tubo de paredes delgadas es difícil de alcanzar con la soldadura manual.   Conexión del sello de cara de la junta del metal del VCR   Conexión orbital automática de la soldadura a tope de tubos   Válvulas de la pureza elevada La actividad química de las altas demandas de la especialidad de los lugares electrónicos inflamables, explosivos, corrosivos, y tóxicos de los gases en el lacre de la válvula. Para mejorar la confiabilidad de aislamiento, el requisito de válvulas packingless de prevenir la salida externa, es decir, operación de transferencia del tronco de válvula y el cuerpo de válvula entre el sello usando bramidos del metal o el diafragma del metal, para eliminar la salida debido a la deformación del sello de la abrasión y de embalaje. las válvulas Bramido-selladas y diafragma-selladas son de uso general en los sistemas de proceso para los usos de gran pureza debido a la mayor confiabilidad de los sellos y de la limpieza y del reemplazo más fáciles de la purgación de los internals de la válvula.   las válvulas Bramido-selladas son una construcción packingless de la válvula de aguja que permite la regulación lenta de la abertura y del flujo. Utilizado para el gas electrónico de la especialidad que llena de requisitos del flujo de la seguridad o en las botellas de la fuente del precursor de altos requisitos de seguridad. Los sellos todos de metal de la extremidad del tronco permiten extremadamente - las temperaturas de funcionamiento bajas y se utilizan para la licuefacción criogénica de los gases electrónicos de la especialidad en los tanques del producto final después de la destilación criogénica para instalar tubos.   La válvula Springless del sello del diafragma es un 1/4" válvula broche-abierta para el uso como válvula que cambia automáticamente controlada en la tubería de la entrega. Son de uso general en la ultra-alto-presión, los usos de gran pureza debido a su trayectoria simple del flujo interno, el pequeño volumen interno, y la facilidad de la purga y del reemplazo.   las válvulas Diafragma-selladas que se cierran vía la extremidad del tronco se pueden abrir lentamente y utilizar en presiones de funcionamiento más altas que las válvulas diafragma-selladas no-saltadas. Son ampliamente utilizadas en las botellas electrónicas de alta presión de la fuente del relleno o del precursor del gas de la especialidad.   El sello secundario grita la válvula puede no sólo ser utilizado en sistemas ultrabajos del proceso de la temperatura en -200 grados, pero también previene la salida de medios peligrosos en la atmósfera. Utilizado generalmente para los gases especiales electrónicos muy peligrosos, tales como sistema de relleno del silano.   La tecnología Co., Ltd de Shenzhen Wofei, con más de 10 años de experiencia en la fuente de los gases industriales y de la especialidad, de los materiales, de los sistemas de suministro de gas y de la ingeniería para el semiconductor, LED, COPITA, mercados del gas de TFT LCD, podemos proveer de usted los materiales necesarios para empujar sus productos a la vanguardia de la industria. Podemos no sólo suministrar una amplia gama de válvulas y de colocaciones para los gases electrónicos de la especialidad del semiconductor, pero podemos también diseñar la instalación de tubos de gas y la instalación de equipo para nuestros clientes. Si usted tiene cualesquiera necesidades en esta área, éntrenos en contacto con por favor en 0927023443.  

Los gases de la especialidad a menudo se consideran la sangre de la industria de electrónica y el corazón de la fabricación del semiconductor. El mercado global de los gases de la especialidad se utiliza en cuatro usos dominantes en el proceso de fabricación del microprocesador del semiconductor y se relaciona directamente con la disponibilidad y el potencial de las tecnologías que utilizamos hoy. Sin embargo, el uso del gas es inevitable la necesidad de accesorios y del equipo relacionados para transformación para que se utilizará bien; por lo tanto, la tecnología como portero del gaseoducto, que de Shenzhen Wofly es claramente el campo de batalla principal de la tecnología de Wofly, barriendo los proyectos incontables nacionales del laboratorio ha sido muy madura, como las compañías de Huawei Fortune 500, pero también ha cooperado con el proyecto del semiconductor necesita proporcionar servicios o productos. Para el semiconductor el proyecto necesita proporcionar servicios o la tecnología de Wofly de los productos es también la ayuda más grande que puede proporcionar, certificados especiales del gas de la tecnología de Wofly, e investigación y desarrollo de la CROMATOGRAFÍA GASEOSA especial del equipo del gas (gabinete especial del gas), (estante especial del gas) GR, (caja de válvula) VMB, (placa de la válvula) VMP; el gas que mezcla y que proporcióna el dispositivo tiene un gabinete proporcional completamente automatizado del mezclado-gas, gabinete proporcional del mezclado-gas horizontal, los dos elementos del gas que mezcla y que proporcióna el dispositivo, gas multi-distante que mezcla y que proporcióna el dispositivo, y así sucesivamente. Todo el éstos pueden proporcionar la ayuda más grande para la industria del semiconductor. La tecnología de Wolfly para vender productos se hace juego con el gas, pueden ser equipados de un conjunto completo de equipo del suministro de gas, con todo la ingeniería es su ventaja, en esto que muchas compañías a ser mucho mejores, se entiende que una parte grande de la compañía es comprar solamente productos, tecnología de Wolfly ambos productos, y la ingeniería y en este camino ha estado caminando durante 12 años, se puede decir ser una gran cantidad de experiencia. Aunque, ahora la tecnología de Wolfly no se cuente como una de las compañías, sino en el país o una pequeña reputación, creo que un día en esta industria será en el futuro un pequeño éxito internacional, con todo la calidad del producto puede probar todo.

En la fabricación del semiconductor, los gases hacen todo el trabajo y los lasers consiguen toda la atención. Mientras que los lasers hacen modelos del transistor del grabado de pistas en el silicio, el grabado de pistas que primero deposita el silicio y analiza el laser para hacer los circuitos completos es una serie de gases. No es de extrañar que estos gases, que se utilizan para desarrollar los microprocesadores con un proceso gradual, están de pureza elevada. Además de esta limitación, muchos de ellos tienen otras preocupaciones y limitaciones. Algunos de los gases son criogénicos, otros son corrosivos, y otros siguen siendo altamente tóxicos. Cosiderándolo todo, estas limitaciones hacen los sistemas de distribución de fabricación del gas para la industria del semiconductor un considerable desafío. Las especificaciones materiales están exigiendo. Además de especificaciones materiales, un arsenal de la distribución del gas es un arsenal electromecánico complejo de sistemas interconectados. Los ambientes en los cuales están montados son complejos y traslapo. La fabricación final ocurre en sitio como parte del proceso de instalación. Ayudas que sueldan orbitales hacer frente a las altas especificaciones de los requisitos de la distribución del gas mientras que hace la fabricación en los ambientes apretados, desafiadores más manejables.   Cómo la industria del semiconductor utiliza los gases Antes de intentar planear la fabricación de un sistema de distribución del gas, es necesario entender por lo menos los fundamentos de la fabricación del semiconductor. En su base, los semiconductores utilizan los gases para depositar los sólidos cercano-elementales en una superficie de una manera altamente controlada. Estos sólidos depositados entonces son modificados introduciendo los gases adicionales, los lasers, los etchants químicos, y calor. Los pasos en el proceso amplio son: Deposición: Éste es el proceso de crear la oblea de silicio inicial. Los gases del precursor del silicio se bombean en una cámara de la deposición de vacío y forman las obleas de silicio finas con interacciones químicas o físicas. Fotolitografía: La sección de la foto refiere a los lasers. En el espectro ultravioleta extremo más alto de la litografía (EUV) usado para hacer los microprocesadores más altos de la especificación, un laser de dióxido de carbono se utiliza para grabar al agua fuerte el conjunto de circuitos del microprocesador en la oblea. Aguafuerte: Durante el proceso que graba al agua fuerte, el gas del halógeno-carbono se bombea en la cámara para activar y para disolver los materiales seleccionados en el substrato de silicio. Este proceso graba con eficacia el conjunto de circuitos impreso por laser sobre el substrato. Doping: Éste es un paso adicional que cambia la conductividad de la superficie grabada al agua fuerte para determinar las condiciones exactas bajo las cuales el semiconductor conduce. Recocido: En este proceso, las reacciones entre las capas de la oblea son accionadas por la presión y la temperatura elevadas. Esencialmente, concluye los resultados del proceso anterior y crea el procesador concluido en la oblea. Cámara y línea limpieza: Los gases usados en los pasos anteriores, grabando al agua fuerte y dopando especialmente, son a menudo altamente tóxicos y reactivos. Por lo tanto, la cámara del proceso y las líneas de gas que la alimentan necesitan ser llenadas de los gases de neutralización para reducir o para eliminar reacciones dañinas, y después ser llenadas de los gases inertes para prevenir la intrusión de cualquier gas contaminante del ambiente exterior. Los sistemas de distribución del gas en la industria del semiconductor son a menudo complejos debido a los muchos diversos gases implicados y el control apretado del flujo, de la temperatura y de la presión del gas que se debe mantener en un cierto plazo. Esto es complicada más a fondo por la pureza ultraalta requerida para cada gas en el proceso. Los gases usados en el paso anterior deben ser enjuagados de las líneas y de las cámaras o ser neutralizados de otra manera antes de que el paso siguiente del proceso pueda comenzar. Esto significa que hay un gran número de líneas especializadas, interfaces entre el sistema soldado con autógena del tubo y las mangueras, los interfaces entre las mangueras y los tubos y los reguladores del gas y los sensores, y los interfaces entre todos los componentes previamente mencionados y los sistemas de las válvulas y del aislamiento diseñados para evitar que la contaminación de la tubería del suministro de gas natural sea intercambiada hacia fuera. Además, los exteriores del recinto limpio y los gases de la especialidad serán equipados de los sistemas de suministro de gas a granel en ambientes del recinto limpio y áreas confinadas especializadas para atenuar cualquier peligro en caso de salida accidental. La soldadura de estos sistemas de gas en un ambiente tan complejo no es ninguna tarea fácil. Sin embargo, con cuidado, la atención al detalle y el equipo derecho, esta tarea se puede lograr con éxito.   Sistemas de distribución de fabricación del gas en la industria del semiconductor Los materiales usados en sistemas de distribución del gas del semiconductor son altamente variables. Pueden incluir cosas como los tubos y las mangueras PTFE-alineados del metal para resistir los gases altamente corrosivos. El material más común usado para la tubería de fines generales en la industria del semiconductor es 316L el acero inoxidable - una variante de acero inoxidable con poco carbono. Cuando se trata de 316L contra 316, 316L es más resistente a la corrosión intergranular. Esto es una consideración importante al ocuparse de una gama de gases altamente reactivos y potencialmente volátiles que puedan corroer el carbono. Lanzamientos de acero inoxidables de soldadura 316L menos precipitados del carbono. También reduce el potencial para la erosión del límite de grano, que puede llevar a la corrosión crateriforme en soldaduras y zonas afectadas de calor. Para reducir la posibilidad de la corrosión aflautada que lleva a la línea de productos corrosión y contaminación, el acero inoxidable 316L soldado con autógena con el argón puro que protege los carriles herméticos a los gases de la soldadura del gas y del tungsteno es el estándar en la industria del semiconductor. El único proceso de soldadura que proporciona el control necesario para mantener un ambiente de la pureza elevada en la instalación de tubos del proceso. La soldadura orbital automatizada está solamente disponible en la distribución del gas del semiconductor