CHINA Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Noticias de la empresa

1. ¿Para qué provee de gas el regulador de presión de gas del VCR es conveniente? Los reguladores de presión de gas del VCR son convenientes para los gases peligrosos y ultraaltos de la pureza.   2. ¿Cuáles son los gases peligrosos para los cuales el regulador de presión de gas del VCR es conveniente? Los gases peligrosos comunes y la información relacionada son: Amoníaco (NH3): El amoníaco es una sustancia química común ampliamente utilizada en fertilizantes agrícolas, refrigerantes, agentes de limpieza y procesos industriales. Cloro (Cl2): El cloro es una sustancia química de uso general para la desinfección, el blanqueo, el tratamiento de aguas y la fabricación de otras sustancias químicas. Dióxido de carbono (CO2): El dióxido de carbono es un gas común usado como agente de carbonatación en el sector de los productos alimenticios y de las bebidas, así como en la soldadura, la lucha contra el fuego y otros usos industriales. Hidrógeno Cyanide (CNH): El cianuro de hidrógeno es un gas altamente tóxico usado en metalurgia, síntesis orgánica y la fabricación del pesticida. Sulfuro de hidrógeno (H2S): El sulfuro de hidrógeno es un gas altamente maloliente y tóxico de uso general en la industria del petróleo y gas y otros procesos industriales. Cloruro de hidrógeno (ácido clorhídrico): El cloruro de hidrógeno es un gas con un olor irritante y es de uso general en la fabricación de sustancias químicas, de metales de limpieza, y de niveles de regulación del pH. Nitrógeno (N2): El nitrógeno es un gas inerte de uso general proteger y ambientes inertes de la reacción, así como para la prueba de la contención y de presión del gas. Oxígeno (O2): El oxígeno es un gas esencial de uso general en la industria médica, el corte de gas, la soldadura y los procesos de la combustión.   3. ¿Características del regulador de presión de gas del VCR? REGULACIÓN DE LA ALTA EXACTITUD: El regulador de presión de gas del VCR utiliza un mecanismo de regla exacto que proporcione la regulación de presión altamente exacta de gas. Esto hace útil en los usos donde el control exacto del flujo y de la presión del gas se requiere, por ejemplo en la investigación del laboratorio, la fabricación de la precisión y el análisis de gas. Confiabilidad y estabilidad: Diseñado para la regulación estable a largo plazo del gas, los reguladores de presión de gas del VCR son capaces de proporcionar funcionamiento confiable bajo condiciones de funcionamiento diversas. Se construyen típicamente usando los materiales y la ejecución de alta calidad para asegurar la operación confiable durante largos períodos de tiempo y para minimizar el riesgo de salida y de fracaso. Opciones de conexión múltiples: Los reguladores de presión de gas del VCR están típicamente disponibles con una variedad de opciones de conexión acomodar diversa instalación de tubos de gas y requisitos de sistema. Las opciones de conexión comunes incluyen VCR metal-sellaron las colocaciones, conexiones ensanchadas, y las conexiones roscadas, haciendo la instalación y la integración del regulador flexible y fácil. Amplia gama de la ajustabilidad: Los reguladores de presión de gas del VCR tienen típicamente una amplia gama de ajustabilidad para acomodar diversos requisitos de la presión. Si la regulación de presión alta o baja está requerida, proporcionan la solución apropiada. Características de la seguridad: Los reguladores de presión de gas del VCR se equipan a menudo de una variedad de características de la seguridad para asegurar la operación segura del sistema. Estas características pueden incluir la protección de sobrepresión, la protección de la sobreintensidad de corriente, la protección de sobrecalentamiento y la detección de escape para minimizar el riesgo de peligros potenciales y de accidentes. Ajustabilidad: Los reguladores de presión de gas del VCR son típicamente ajustables, permitiendo que el usuario fije y ajuste la presión a las necesidades específicas. Esta ajustabilidad hace el regulador conveniente para diversos escenarios del uso y los requisitos de proceso.   4. ¿El ambiente en el cual el regulador de presión de gas del VCR está montado? Los reguladores de presión de gas del VCR están montados en cuartos limpios de asegurar limpieza y de ayudar a mantener la integridad y el funcionamiento del regulador de presión de gas del VCR.   5. ¿Cómo los reguladores de presión de gas del VCR trabajan? Entrada del gas al regulador: El gas entra en el regulador de presión de gas del VCR a través de una línea de conexión. La entrada está conectada generalmente con una fuente del gas. Detección de la presión: Dentro del regulador hay un elemento de detección de la presión, generalmente una primavera o un diafragma. Pues el gas entra en el regulador, el elemento de detección de la presión se sujeta a la presión de gas y genera una fuerza correspondiente. Equilibrio de fuerzas: La fuerza del elemento de detección de la presión se equilibra contra un mecanismo de regulación dentro del regulador. Este mecanismo consiste en generalmente una válvula y un carrete de regulación. Operación de válvula de regulación: Dependiendo de la fuerza del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se abrirá o se cerrará por consiguiente para ajustar la presión del gas que atraviesa el sistema. Cuando la fuerza de los aumentos del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se cierra, disminuyendo el flujo del gas y así bajando la presión de sistema. Inversamente, cuando la fuerza en las disminuciones del elemento de detección de la presión, la válvula de regulación se abre, aumentando el flujo del gas y aumentando la presión de sistema. Estabilización de la presión: Continuamente ajustando la abertura de la válvula, el regulador de presión de gas del VCR mantiene una presión constante del gas que atraviesa el sistema. El regulador ajustará en tiempo real según las necesidades para asegurarse de que sigue habiendo la presión de gas en el sistema dentro de una gama predeterminada.

En la fabricación del semiconductor, los gases hacen todo el trabajo y los lasers consiguen toda la atención. Mientras que los lasers hacen modelos del transistor del grabado de pistas en el silicio, el grabado de pistas que primero deposita el silicio y analiza el laser para hacer los circuitos completos es una serie de gases. No es de extrañar que estos gases, que se utilizan para desarrollar los microprocesadores con un proceso gradual, están de pureza elevada. Además de esta limitación, muchos de ellos tienen otras preocupaciones y limitaciones. Algunos de los gases son criogénicos, otros son corrosivos, y otros siguen siendo altamente tóxicos.   Cosiderándolo todo, estas limitaciones hacen los sistemas de distribución de fabricación del gas para la industria del semiconductor un considerable desafío. Las especificaciones materiales están exigiendo. Además de especificaciones materiales, un arsenal de la distribución del gas es un arsenal electromecánico complejo de sistemas interconectados. Los ambientes en los cuales están montados son complejos y traslapo. La fabricación final ocurre en sitio como parte del proceso de instalación. Ayudas de soldadura orbitales para cumplir los altos requisitos de la distribución del gas de la especificación mientras que hace la fabricación en los ambientes apretados y desafiadores más manejables.   Cómo los gases se utilizan en la industria del semiconductor   Antes de intentar planear la fabricación de un sistema de distribución del gas, es necesario entender por lo menos los fundamentos de la fabricación del semiconductor. En su base, los semiconductores utilizan los gases para depositar los sólidos cercano-elementales en una superficie de una manera altamente controlada. Estos sólidos depositados entonces son modificados introduciendo los gases adicionales, los lasers, los etchants químicos, y calor. Los pasos en el proceso amplio son:   Deposición: Éste es el proceso de crear la oblea de silicio inicial. Los gases del precursor del silicio se bombean en una cámara de la deposición de vacío y forman las obleas de silicio finas con interacciones químicas o físicas.   Fotolitografía: La sección de la foto refiere a los lasers. En el espectro ultravioleta extremo más alto de la litografía (EUV) usado para hacer los microprocesadores más altos de la especificación, un laser de dióxido de carbono se utiliza para grabar al agua fuerte el conjunto de circuitos del microprocesador en la oblea.   Aguafuerte: Durante el proceso que graba al agua fuerte, el gas del halógeno-carbono se bombea en la cámara para activar y para disolver los materiales seleccionados en el substrato de silicio. Este proceso graba con eficacia el conjunto de circuitos impreso por laser sobre el substrato.   Doping: Éste es un paso adicional que cambia la conductividad de la superficie grabada al agua fuerte para determinar las condiciones exactas bajo las cuales el semiconductor conduce.   Recocido: En este proceso, las reacciones entre las capas de la oblea son accionadas por la presión y la temperatura elevadas. Esencialmente, concluye los resultados del proceso anterior y crea el procesador concluido en la oblea.   Cámara y línea limpieza: Los gases usados en los pasos anteriores, grabando al agua fuerte y dopando especialmente, son a menudo altamente tóxicos y reactivos. Por lo tanto, la cámara del proceso y las líneas de gas que la alimentan necesitan ser llenadas de los gases de neutralización para reducir o para eliminar reacciones dañinas, y después ser llenadas de los gases inertes para prevenir la intrusión de cualquier gas contaminante del ambiente exterior.   Los sistemas de distribución del gas en la industria del semiconductor son a menudo complejos debido a los muchos diversos gases implicados y el control apretado del flujo, de la temperatura y de la presión del gas que se debe mantener en un cierto plazo. Esto es complicada más a fondo por la pureza ultraalta requerida para cada gas en el proceso. Los gases usados en el paso anterior deben ser enjuagados de las líneas y de las cámaras o ser neutralizados de otra manera antes de que el paso siguiente del proceso pueda comenzar. Esto significa que hay un gran número de líneas especializadas, interfaces entre los sistemas del tubo y las mangueras soldados con autógena, interfaces entre las mangueras y los tubos y los reguladores del gas y sensores, así como los interfaces entre todos los componentes y sistemas previamente mencionados de las válvulas y del aislamiento diseñados para evitar que la contaminación de la tubería del suministro de gas natural sea intercambiada hacia fuera.   Además, el exterior del recinto limpio y los gases de la especialidad serán equipados de los sistemas de suministro de gas a granel en ambientes del recinto limpio y áreas confinadas especializadas para atenuar cualquier peligro en caso de salida accidental. La soldadura de estos sistemas de gas en un ambiente tan complejo no es ninguna tarea fácil. Sin embargo, con cuidado, la atención al detalle y el equipo derecho, esta tarea se puede lograr con éxito.   Sistemas de distribución de fabricación del gas en la industria del semiconductor Los materiales usados en sistemas de distribución del gas del semiconductor son altamente variables. Pueden incluir cosas como los tubos y las mangueras PTFE-alineados del metal para resistir los gases altamente corrosivos. El material más común usado para la tubería de fines generales en la industria del semiconductor es 316L el acero inoxidable - una variante de acero inoxidable con poco carbono. Cuando se trata de 316L contra 316, 316L es más resistente a la corrosión intergranular. Esto es una consideración importante al ocuparse de una gama de gases altamente reactivos y potencialmente volátiles que puedan corroer el carbono. Lanzamientos de acero inoxidables de soldadura 316L menos precipitados del carbono. También reduce el potencial para la erosión del límite de grano, que puede llevar a la corrosión crateriforme en soldaduras y zonas afectadas de calor.   Para reducir la posibilidad de la corrosión aflautada que lleva a la línea de productos corrosión y contaminación, el acero inoxidable 316L soldado con autógena con el argón puro que protege los carriles herméticos a los gases de la soldadura del gas y del tungsteno es el estándar en la industria del semiconductor. El único proceso de soldadura que proporciona el control necesario para mantener un ambiente de la pureza elevada en la instalación de tubos del proceso. La soldadura orbital automatizada proporciona solamente el control de proceso repetible necesitó terminar la soldadura en la fabricación de los sistemas de distribución del gas del semiconductor. El hecho que incluyó las cabezas orbitales de la soldadura puede acomodar haber apretado y los espacios difíciles en las intersecciones complejas entre las áreas de proceso es una ventaja significativa del proceso. La tecnología Co., Ltd de Shenzhen Wofei, con más de 10 años de experiencia en la fuente de gases industriales y de la especialidad, de materiales, de sistemas de suministro de gas y de ingeniería del gas para el semiconductor, los mercados del LED, de la COPITA, y de TFT LCD, podemos proveer de usted los materiales necesarios traer sus productos a la vanguardia de la industria. Podemos no sólo proporcionar una amplia gama de válvulas y de colocaciones para los gases electrónicos de la especialidad del semiconductor, pero también diseñamos la instalación de tubos de gas y la instalación de equipo para nuestros clientes.

la válvula de diafragma neumática es un tipo de válvula que utilice el aire comprimido para actuar un diafragma flexible para controlar el flujo de líquidos o de gases. La válvula consiste en un cuerpo, un diafragma, y un actuador neumático que controle el movimiento del diafragma. El principio de trabajo de válvula de diafragma neumática: (1) suministro de aire: El aire comprimido se suministra al actuador neumático de la válvula, que está conectada con el diafragma. movimiento del diafragma (de 2): El actuador neumático mueve el diafragma hacia arriba o hacia abajo, dependiendo de la dirección del flujo de aire. Este movimiento abre o cierra la válvula, permitiendo o restringiendo el flujo de líquido o de gas a través de la válvula. señal de control (de 3): El actuador neumático es controlado por una señal de un sistema externo del regulador o de control, que regula la cantidad de aire suministrada al actuador y controla así la posición del diafragma. control de flujo (de 4): Ajustando la posición del diafragma, la válvula de diafragma neumática puede controlar el flujo de líquido o de gas a través de la válvula. Cuando el diafragma está en la posición abierta, se restringe o se para el líquido o el gas atraviesa la válvula, y cuando el diafragma está en la posición cerrada, el flujo.   Las válvulas de diafragma neumáticas son de uso general en una variedad de usos, incluyendo el tratamiento químico del proceso, de los productos farmacéuticos, de la comida y del bebida, y de aguas, donde está crítico el control de flujo confiable y eficiente. Se saben para su confiabilidad, durabilidad, y facilidad del mantenimiento.

La presión es uno de los parámetros importantes en la producción industrial. La medida y el control correctos de la presión es un vínculo importante para asegurar la buena operación del proceso de producción y para realizar la producción de alta calidad, alta, el bajo-consumo y la producción segura. Por lo tanto, la detección de presión está consiguiendo cada vez más la atención. 1. ¿cuál es el indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto es uno lo más frecuentemente de los indicadores de presión entrados en contacto con al lado de los calibradores grassroots debido a su variedad, modelos completos y amplia gama de usos. El nivel general de la exactitud es 1.0-4.0, especialmente en la medida y el control de calderas, de recipientes del reactor o de tuberías de la presión. El indicador de presión se utiliza generalmente conjuntamente con las retransmisiones correspondientes, los contactores y otros dispositivos eléctricos para realizar el control automático del sistema medido de la presión y del propósito de la alarma de la señal. En el curso de uso diario, los indicadores de presión tendrán diversos problemas y los malfuncionamientos debido a la vibración, el aceite, el desgaste y la corrosión, los etc., que requieren mantenimiento y la calibración oportunos.   ¿Principio de funcionamiento de indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto consiste en un indicador de presión del tubo de la primavera equipado de un contacto eléctrico. Además de la indicación in situ, también se utiliza para señalar la presión que excede límites. El principio de medida de la presión se basa en el sistema de medición en el tubo de la primavera bajo la presión del medio medido para forzar el extremo del tubo de la primavera para producir la deformación elástica correspondiente (dislocación), a través del engranaje fijo en el indicador será el valor medido de la indicación en el dial; al mismo tiempo, conduzca el contacto para producir la acción correspondiente (cerrada o abierta), de modo que el sistema de control del voltaje en el circuito con./desc., para alcanzar el propósito de la alarma del control automático y de las instrucciones in situ.   3. ¿Calibración del indicador de presión eléctrico del contacto? El indicador de presión eléctrico del contacto es realmente un interruptor del circuito actuado por el indicador de presión. Es apenas un indicador de presión ordinario del tubo de la primavera, adaptado con el dispositivo eléctrico de la señalización del contacto. La calibración de la parte a presión es lo mismo que la del indicador de presión ordinario. La diferencia con el otro indicador de presión es la reacción después de conexión. Cuando mirada que verifica, la primera en la exactitud de su presión, y entonces mira la sensibilidad de su reacción de la conexión. Por lo tanto, la verificación se divide en dos pasos: (1) parte a presión del valor de fines generales de la calibración del indicador de presión; (2) la parte eléctrica, después de que se califique la calibración del valor de la demostración, el dispositivo eléctrico de la señalización del contacto se debe calibrar bajo presión y su funcionamiento de la conexión se debe comprobar con un multímetro.   4. ¿Calibración de la pieza a presión del indicador de presión eléctrico del contacto? El método de la comparación es un método común para calibrar el indicador de presión. El indicador de presión estándar y el indicador de presión medido están instalados en el mismo nivel del indicador de presión del pistón o del calibrador de la presión. Después de que el pistón se llene del fluido operante (aceite del transformador) y se descarga el aire interno, la válvula de aguja en la taza de aceite se cierra para formar un sistema cerrado; la presión del fluido operante sacado puede ser cambiada girando el volante de dirección en el pistón del tipo indicador o calibrador del pistón de presión. Impulsión hidráulica del fluido operante, de modo que el mismo nivel de indicador de presión estándar y del indicador de presión a ser sincronización medida de la presión y cambios iguales; el indicador de presión estándar y el indicador de presión que se medirá para comparar el valor indicado.  

El proceso de producción de los gases electrónicos de la especialidad incluye varios procesos tales como síntesis, purificación, relleno, análisis y prueba, mezcla y proporciónar. Para cumplir los requisitos de fabricación del semiconductor rio abajo para el contenido de la pureza y de impureza, el proceso de la purificación es muy importante. Dependiendo de la composición del gas de síntesis por aguas arriba o del gas crudo, se realiza la destilación de la baja temperatura o la purificación gradual.   Altos requisitos de la limpieza El proceso de la preparación de gases especiales electrónicos se puede dividir en dos bloques importantes de preparación y de purificación por aguas arriba de la síntesis, que pertenece al proceso de producción químico. El tamaño de la tubería de la producción es grande, y no hay requisito especial del nivel de limpieza. Después de la purificación rio abajo, el producto se llena del gas y se mezcla para la preparación. La tubería de la producción es pequeña y tiene requisitos del nivel de limpieza. Necesita resolver la especificación estándar del proceso de fabricación del semiconductor. Altos requisitos de aislamiento Debido a su actividad química, los gases electrónicos de la especialidad también ponen altas demandas en los materiales y el aislamiento del sistema del proceso de producción. Apenas como los requisitos de la fabricación del semiconductor, previene la salida del interfaz causada por la introducción de impurezas o la corrosión de gases especiales. El sistema se puede también utilizar para prevenir la introducción de impurezas o la salida del interfaz causada por la corrosión de gases especiales.   Requisitos de alta calidad de la estabilidad La calidad de los gases electrónicos de la especialidad incluye varios indicadores tales como contenido de la partícula de la pureza y de la impureza. Cualquier cambio en los indicadores afectará a los resultados del proceso de fabricación rio abajo del semiconductor. Por lo tanto, para asegurar la consistencia de los indicadores especiales electrónicos del producto del gas, el sistema del proceso de la preparación para controlar la estabilidad de los indicadores es también muy importante.     Debido a los requisitos químicos del EGP, el sistema de producción para la preparación del EGP, especialmente el sistema rio abajo de la actividad y de calidad de la purificación, debe cumplir los requisitos de los materiales de la pureza elevada, del alto lacre, de la alta limpieza y de la consistencia de alta calidad, y la construcción de componentes dirigidos debe cumplir los estándares de la industria fabril del semiconductor. Como qué nos referimos comúnmente la “pureza elevada” es teóricamente la definición de la pureza de una sustancia, tal como gases de la pureza elevada, sustancias químicas de la pureza elevada, sistemas de proceso del etc. o los componentes de sistema del proceso que se aplican a las sustancias de gran pureza también se refieren como de gran pureza, por ejemplo sistemas de gran pureza y válvulas de gran pureza. Los sistemas electrónicos de la preparación del gas de la especialidad requieren las colocaciones del uso de la pureza elevada, las válvulas, y otros componentes flúidos, es decir, las colocaciones y las válvulas que se procesan con los materiales de la pureza elevada y los procesos de fabricación limpios, y se estructuran para la purga y la limpieza fáciles. Con alto funcionamiento de aislamiento. Estos componentes flúidos se diseñan para resolver la trayectoria del flujo de proceso del uso, usando los requisitos de la ingeniería y de la construcción de la industria del semiconductor.   Conexiones de tubería de la pureza elevada Las conexiones del sello de cara de la junta del metal del VCR y las conexiones automáticas de la soldadura de extremo de la guía son ampliamente utilizadas en los requisitos flúidos exigentes del proceso de la pureza del sistema debido a la capacidad de resolver la transición suave de la trayectoria del flujo en la conexión, ninguna zona del estancamiento, y las altas conexiones del lacre performance.VCR forman un sello superficial estrecho sacando una junta relativamente suave del metal. Se asegura el funcionamiento repetible y constante de la conexión y del aislamiento cada vez que se quita y se substituye la junta deformada.   Los tubos se sueldan con autógena usando un sistema de soldadura orbital automático. El tubo es protegido por el gas de la pureza elevada por dentro y por fuera. El electrodo del tungsteno gira a lo largo de la órbita para la soldadura de alta calidad. La soldadura orbital completamente automatizada derrite el tubo sin la introducción de otros materiales, alcanzando una soldadura de alta calidad en varias ocasiones controlando el tubo de paredes delgadas es difícil de alcanzar con la soldadura manual.   Conexión del sello de cara de la junta del metal del VCR   Conexión orbital automática de la soldadura a tope de tubos   Válvulas de la pureza elevada La actividad química de las altas demandas de la especialidad de los lugares electrónicos inflamables, explosivos, corrosivos, y tóxicos de los gases en el lacre de la válvula. Para mejorar la confiabilidad de aislamiento, el requisito de válvulas packingless de prevenir la salida externa, es decir, operación de transferencia del tronco de válvula y el cuerpo de válvula entre el sello usando bramidos del metal o el diafragma del metal, para eliminar la salida debido a la deformación del sello de la abrasión y de embalaje. las válvulas Bramido-selladas y diafragma-selladas son de uso general en los sistemas de proceso para los usos de gran pureza debido a la mayor confiabilidad de los sellos y de la limpieza y del reemplazo más fáciles de la purgación de los internals de la válvula.   las válvulas Bramido-selladas son una construcción packingless de la válvula de aguja que permite la regulación lenta de la abertura y del flujo. Utilizado para el gas electrónico de la especialidad que llena de requisitos del flujo de la seguridad o en las botellas de la fuente del precursor de altos requisitos de seguridad. Los sellos todos de metal de la extremidad del tronco permiten extremadamente - las temperaturas de funcionamiento bajas y se utilizan para la licuefacción criogénica de los gases electrónicos de la especialidad en los tanques del producto final después de la destilación criogénica para instalar tubos.   La válvula Springless del sello del diafragma es un 1/4" válvula broche-abierta para el uso como válvula que cambia automáticamente controlada en la tubería de la entrega. Son de uso general en la ultra-alto-presión, los usos de gran pureza debido a su trayectoria simple del flujo interno, el pequeño volumen interno, y la facilidad de la purga y del reemplazo.   las válvulas Diafragma-selladas que se cierran vía la extremidad del tronco se pueden abrir lentamente y utilizar en presiones de funcionamiento más altas que las válvulas diafragma-selladas no-saltadas. Son ampliamente utilizadas en las botellas electrónicas de alta presión de la fuente del relleno o del precursor del gas de la especialidad.   El sello secundario grita la válvula puede no sólo ser utilizado en sistemas ultrabajos del proceso de la temperatura en -200 grados, pero también previene la salida de medios peligrosos en la atmósfera. Utilizado generalmente para los gases especiales electrónicos muy peligrosos, tales como sistema de relleno del silano.   La tecnología Co., Ltd de Shenzhen Wofei, con más de 10 años de experiencia en la fuente de los gases industriales y de la especialidad, de los materiales, de los sistemas de suministro de gas y de la ingeniería para el semiconductor, LED, COPITA, mercados del gas de TFT LCD, podemos proveer de usted los materiales necesarios para empujar sus productos a la vanguardia de la industria. Podemos no sólo suministrar una amplia gama de válvulas y de colocaciones para los gases electrónicos de la especialidad del semiconductor, pero podemos también diseñar la instalación de tubos de gas y la instalación de equipo para nuestros clientes. Si usted tiene cualesquiera necesidades en esta área, éntrenos en contacto con por favor en 0927023443.  

Los gases de la especialidad a menudo se consideran la sangre de la industria de electrónica y el corazón de la fabricación del semiconductor. El mercado global de los gases de la especialidad se utiliza en cuatro usos dominantes en el proceso de fabricación del microprocesador del semiconductor y se relaciona directamente con la disponibilidad y el potencial de las tecnologías que utilizamos hoy. Sin embargo, el uso del gas es inevitable la necesidad de accesorios y del equipo relacionados para transformación para que se utilizará bien; por lo tanto, la tecnología como portero del gaseoducto, que de Shenzhen Wofly es claramente el campo de batalla principal de la tecnología de Wofly, barriendo los proyectos incontables nacionales del laboratorio ha sido muy madura, como las compañías de Huawei Fortune 500, pero también ha cooperado con el proyecto del semiconductor necesita proporcionar servicios o productos. Para el semiconductor el proyecto necesita proporcionar servicios o la tecnología de Wofly de los productos es también la ayuda más grande que puede proporcionar, certificados especiales del gas de la tecnología de Wofly, e investigación y desarrollo de la CROMATOGRAFÍA GASEOSA especial del equipo del gas (gabinete especial del gas), (estante especial del gas) GR, (caja de válvula) VMB, (placa de la válvula) VMP; el gas que mezcla y que proporcióna el dispositivo tiene un gabinete proporcional completamente automatizado del mezclado-gas, gabinete proporcional del mezclado-gas horizontal, los dos elementos del gas que mezcla y que proporcióna el dispositivo, gas multi-distante que mezcla y que proporcióna el dispositivo, y así sucesivamente. Todo el éstos pueden proporcionar la ayuda más grande para la industria del semiconductor. La tecnología de Wolfly para vender productos se hace juego con el gas, pueden ser equipados de un conjunto completo de equipo del suministro de gas, con todo la ingeniería es su ventaja, en esto que muchas compañías a ser mucho mejores, se entiende que una parte grande de la compañía es comprar solamente productos, tecnología de Wolfly ambos productos, y la ingeniería y en este camino ha estado caminando durante 12 años, se puede decir ser una gran cantidad de experiencia. Aunque, ahora la tecnología de Wolfly no se cuente como una de las compañías, sino en el país o una pequeña reputación, creo que un día en esta industria será en el futuro un pequeño éxito internacional, con todo la calidad del producto puede probar todo.

En la fabricación del semiconductor, los gases hacen todo el trabajo y los lasers consiguen toda la atención. Mientras que los lasers hacen modelos del transistor del grabado de pistas en el silicio, el grabado de pistas que primero deposita el silicio y analiza el laser para hacer los circuitos completos es una serie de gases. No es de extrañar que estos gases, que se utilizan para desarrollar los microprocesadores con un proceso gradual, están de pureza elevada. Además de esta limitación, muchos de ellos tienen otras preocupaciones y limitaciones. Algunos de los gases son criogénicos, otros son corrosivos, y otros siguen siendo altamente tóxicos. Cosiderándolo todo, estas limitaciones hacen los sistemas de distribución de fabricación del gas para la industria del semiconductor un considerable desafío. Las especificaciones materiales están exigiendo. Además de especificaciones materiales, un arsenal de la distribución del gas es un arsenal electromecánico complejo de sistemas interconectados. Los ambientes en los cuales están montados son complejos y traslapo. La fabricación final ocurre en sitio como parte del proceso de instalación. Ayudas que sueldan orbitales hacer frente a las altas especificaciones de los requisitos de la distribución del gas mientras que hace la fabricación en los ambientes apretados, desafiadores más manejables.   Cómo la industria del semiconductor utiliza los gases Antes de intentar planear la fabricación de un sistema de distribución del gas, es necesario entender por lo menos los fundamentos de la fabricación del semiconductor. En su base, los semiconductores utilizan los gases para depositar los sólidos cercano-elementales en una superficie de una manera altamente controlada. Estos sólidos depositados entonces son modificados introduciendo los gases adicionales, los lasers, los etchants químicos, y calor. Los pasos en el proceso amplio son: Deposición: Éste es el proceso de crear la oblea de silicio inicial. Los gases del precursor del silicio se bombean en una cámara de la deposición de vacío y forman las obleas de silicio finas con interacciones químicas o físicas. Fotolitografía: La sección de la foto refiere a los lasers. En el espectro ultravioleta extremo más alto de la litografía (EUV) usado para hacer los microprocesadores más altos de la especificación, un laser de dióxido de carbono se utiliza para grabar al agua fuerte el conjunto de circuitos del microprocesador en la oblea. Aguafuerte: Durante el proceso que graba al agua fuerte, el gas del halógeno-carbono se bombea en la cámara para activar y para disolver los materiales seleccionados en el substrato de silicio. Este proceso graba con eficacia el conjunto de circuitos impreso por laser sobre el substrato. Doping: Éste es un paso adicional que cambia la conductividad de la superficie grabada al agua fuerte para determinar las condiciones exactas bajo las cuales el semiconductor conduce. Recocido: En este proceso, las reacciones entre las capas de la oblea son accionadas por la presión y la temperatura elevadas. Esencialmente, concluye los resultados del proceso anterior y crea el procesador concluido en la oblea. Cámara y línea limpieza: Los gases usados en los pasos anteriores, grabando al agua fuerte y dopando especialmente, son a menudo altamente tóxicos y reactivos. Por lo tanto, la cámara del proceso y las líneas de gas que la alimentan necesitan ser llenadas de los gases de neutralización para reducir o para eliminar reacciones dañinas, y después ser llenadas de los gases inertes para prevenir la intrusión de cualquier gas contaminante del ambiente exterior. Los sistemas de distribución del gas en la industria del semiconductor son a menudo complejos debido a los muchos diversos gases implicados y el control apretado del flujo, de la temperatura y de la presión del gas que se debe mantener en un cierto plazo. Esto es complicada más a fondo por la pureza ultraalta requerida para cada gas en el proceso. Los gases usados en el paso anterior deben ser enjuagados de las líneas y de las cámaras o ser neutralizados de otra manera antes de que el paso siguiente del proceso pueda comenzar. Esto significa que hay un gran número de líneas especializadas, interfaces entre el sistema soldado con autógena del tubo y las mangueras, los interfaces entre las mangueras y los tubos y los reguladores del gas y los sensores, y los interfaces entre todos los componentes previamente mencionados y los sistemas de las válvulas y del aislamiento diseñados para evitar que la contaminación de la tubería del suministro de gas natural sea intercambiada hacia fuera. Además, los exteriores del recinto limpio y los gases de la especialidad serán equipados de los sistemas de suministro de gas a granel en ambientes del recinto limpio y áreas confinadas especializadas para atenuar cualquier peligro en caso de salida accidental. La soldadura de estos sistemas de gas en un ambiente tan complejo no es ninguna tarea fácil. Sin embargo, con cuidado, la atención al detalle y el equipo derecho, esta tarea se puede lograr con éxito.   Sistemas de distribución de fabricación del gas en la industria del semiconductor Los materiales usados en sistemas de distribución del gas del semiconductor son altamente variables. Pueden incluir cosas como los tubos y las mangueras PTFE-alineados del metal para resistir los gases altamente corrosivos. El material más común usado para la tubería de fines generales en la industria del semiconductor es 316L el acero inoxidable - una variante de acero inoxidable con poco carbono. Cuando se trata de 316L contra 316, 316L es más resistente a la corrosión intergranular. Esto es una consideración importante al ocuparse de una gama de gases altamente reactivos y potencialmente volátiles que puedan corroer el carbono. Lanzamientos de acero inoxidables de soldadura 316L menos precipitados del carbono. También reduce el potencial para la erosión del límite de grano, que puede llevar a la corrosión crateriforme en soldaduras y zonas afectadas de calor. Para reducir la posibilidad de la corrosión aflautada que lleva a la línea de productos corrosión y contaminación, el acero inoxidable 316L soldado con autógena con el argón puro que protege los carriles herméticos a los gases de la soldadura del gas y del tungsteno es el estándar en la industria del semiconductor. El único proceso de soldadura que proporciona el control necesario para mantener un ambiente de la pureza elevada en la instalación de tubos del proceso. La soldadura orbital automatizada está solamente disponible en la distribución del gas del semiconductor

Debido a su naturaleza inerte, el nitrógeno gaseoso se puede utilizar en una variedad de purga, de cubierta y de operaciones que limpian con un chorro de agua. Dependiendo del tipo de proceso implicado, diversos niveles de pureza del nitrógeno se requieren para cubrir necesidades de fabricación únicas.   ¿Cuál es pureza del nitrógeno?   La pureza del nitrógeno es el porcentaje del presente del nitrógeno en una muestra recogida de su corriente comparada a las impurezas presenta. El nitrógeno se puede clasificar como alto o de poca pureza basada en el ratio de gas puro a los contaminantes tales como oxígeno, vapor de agua, monóxido de carbono y dióxido de carbono.   Esta clasificación basada en la concentración del nitrógeno desempeña un papel dominante en la determinación de la conveniencia del nitrógeno para cualquier proceso industrial.   Pureza elevada contra el nitrógeno de poca pureza   La pureza de una muestra del nitrógeno es determinada por el porcentaje/la concentración de nitrógeno puro en ella. Para que un gas sea categorizado como pureza elevada, debe contener por lo menos el nitrógeno 99,998%, mientras que el nitrógeno de poca pureza contiene típicamente un porcentaje más alto de impurezas. Nitrógeno de la pureza elevada   El nitrógeno gaseoso con una concentración sobre 99,998% se considera una fracción de la pureza elevada. El nitrógeno de la pureza elevada se puede calificar en maneras diferentes por diversos fabricantes, pero sobre todo se consideran las fracciones del “grado cero”. el nitrógeno de gran pureza del Cero-grado se categoriza como tal porque contienen impurezas del hidrocarburo de menos de 0,5 porciones por millón.   Otras características dominantes del nitrógeno de la pureza elevada son:   ≤ de la concentración de oxígeno 0,5 PPM   Monóxido de carbono/dióxido de carbono no más que 1,0 PPM   Humedad que 3 PPM no mayor   Nitrógeno de poca pureza   El nitrógeno con una pureza del 90% a levemente menos de 99,9% se considera de poca pureza.   Clasificación de la pureza del nitrógeno   La clasificación del nitrógeno puro se logra a través de un sistema de clasificación usando números dentro de cada grado de poca pureza. El primer número de cada grado refiere al número de “nines” que aparezcan dentro de él, mientras que el segundo número representa el número después de los nueve dígitos pasados.   Los grados de la pureza de nitrógeno se categorizan como N2.0, N3.0, N4.0, N5.0, N6.0, y N7.0.   ¿Cuál es nitrógeno ultraalto de la pureza?   el nitrógeno de la Ultraalto-pureza es nitrógeno con una concentración de 99,999% e impurezas insignificantes. Las especificaciones del nitrógeno son rigurosas y las variaciones invalidan la clasificación.   El gas no debe contener más de dos porciones por millón por el volumen (ppmv) de oxígeno, 0,5 porciones por millón por el volumen de hidrocarburos totales, y una porción por millón por el volumen de humedad). El nitrógeno es de uso general para los usos científicos.   ¿Cuál es nitrógeno libre de oxígeno?   El nitrógeno libre de oxígeno (OFN) se define como no más que 0,5 partes con nitrógeno gaseosas por millón (PPM) de oxígeno. Los gases de los OFN se mantienen típicamente en la pureza 99,998%. Este grado de nitrógeno se utiliza en los procesos de la investigación científica y de la calibración donde las impurezas del oxígeno pueden alterar resultados o causar resultados incorrectos. Niveles de la pureza del nitrógeno por industria/el uso   Como se mencionó anteriormente, la concentración de nitrógeno requerida para diversos procesos industriales varía grandemente. La consideración dominante en la selección de un grado del nitrógeno es el efecto de impurezas sobre el uso elegido. La sensibilidad a la humedad, el oxígeno y otros contaminantes son factores claves a considerar.   Nitrógeno del grado del nitrógeno/de la bebida de la categoría alimenticia   El nitrógeno es de uso general en diversos pasos de la comida/de la producción, del empaquetado y del almacenamiento de la bebida. El nitrógeno en el acondicionamiento de los alimentos y el proceso es utilizado para mantener la vida útil de comidas/de bebidas procesadas eliminando los oxidantes de la comida, preservando sabor y previniendo rancidez. La pureza requerida para el nitrógeno de la categoría alimenticia está típicamente en el rango de 98-99.5%.   Nitrógeno farmacéutico del grado   Los procesos de fabricación farmacéuticos requieren pureza elevada prevenir la contaminación y la alteración del producto final. Muchos productos farmacéuticos requieren el nitrógeno del alto grado con purezas entre 97-99.99%. Este alto al nitrógeno ultraalto de la pureza se utiliza para cubrir los tanques del nitrógeno, los envases y el otro equipo de fabricación de la droga.   El nitrógeno de la pureza elevada también se utiliza en el empaquetado farmacéutico para ayudar a mantener frescura y a prevenir el deterioro de ingredientes activos.   El nitrógeno gaseoso con la pureza 95-99% se utiliza en la industria del petróleo y gas para reducir el riesgo de fuego y de explosión durante el proceso. Los tanques de almacenamiento de la neutralización y tuberías químicos de la purga con ayudas gaseosas del nitrógeno para minimizar el riesgo de combustión súbita de su contenido.   Los servicios de mantenimiento de la tubería utilizan a menudo el nitrógeno a presión para la limpieza de la tubería y la tubería que desarma procesos.   Pureza industrial del grado del nitrógeno   Algunos usos industriales y sus requisitos del grado del nitrógeno se resumen abajo.   Electrónica y nitrógeno del grado de la fabricación del semiconductor   Los requisitos contentos del nitrógeno típico en electrónica y la fabricación del semiconductor son generalmente por lo menos 99.99-99.999%. Algunos procesos tales como piezas que limpian y cobertura adhesiva utilizan concentraciones más bajas del nitrógeno (95-99.5%).   Plásticos que fabrican el nitrógeno del grado   Los requisitos del grado del nitrógeno para la síntesis de los plásticos son 95-98% para el moldeo a presión, 99,5% para el moldeo a presión gas-ayudado, y 98-99.5% para la protuberancia soplada de la película.   Metal que procesa el nitrógeno del grado   El contenido del nitrógeno del metal que procesa el grado varía grandemente, a partir de la 95-99% para el tratamiento térmico a 99-99.999% para el proceso del corte del laser.   Nitrógeno del grado de la producción de energía   El nitrógeno en la gama 95-99.6% se requiere para los procesos de la producción de energía tales como purga del sello de aire, guarnición de la caldera, purga natural del gaseoducto y capa del ablandamiento de la agua.

Los gases ultraaltos de la pureza son esenciales en la cadena de suministro del semiconductor. De hecho, para los gases fabulosos, de gran pureza típicos está el costo material más grande después de silicio sí mismo. Como consecuencia de la escasez global del microprocesador, la industria se está ampliando más rápidamente que nunca - y la demanda para los gases de la pureza elevada está aumentando. Los gases a granel más de uso general de la fabricación del semiconductor son nitrógeno, helio, hidrógeno y argón.   Nitrógeno   El nitrógeno compone el 78% de nuestra atmósfera y es extremadamente abundante. También sucede ser químicamente inerte y no-conductor. Como consecuencia, el nitrógeno ha encontrado su manera en varias industrias como gas inerte rentable. La industria del semiconductor es un consumidor importante del nitrógeno. Se espera que una fábrica moderna del semiconductor utilice hasta 50.000 metros cúbicos de nitrógeno por hora. En la fabricación del semiconductor, el nitrógeno actúa como neutralización de fines generales y gas de la purga, protegiendo las obleas de silicio sensibles contra el oxígeno y la humedad reactivos en el aire.   Helio   El helio es un gas inerte. Esto significa que, como el nitrógeno, el helio está químicamente inerte - solamente también tiene la ventaja añadida de la alta conductividad termal. Esto es particularmente útil en la fabricación del semiconductor, permitiendo que conduzca eficientemente calor lejos de procesos de alta energía y que ayude a protegerlos contra daño termal y reacciones químicas indeseadas.   Hidrógeno   El hidrógeno se utiliza extensivamente en el proceso de fabricación de la electrónica, y la producción del semiconductor no es ninguna excepción. Particularmente, el hidrógeno se utiliza para:   Recocido: Las obleas de silicio se calientan típicamente a las temperaturas altas y se refrescaron lentamente para reparar (recocer) la estructura cristalina. El hidrógeno se utiliza para transferir calor uniformemente a la oblea y para ayudar a reconstruir la estructura cristalina.   Epitaxia: El hidrógeno ultraalto de la pureza se utiliza como reductor en la deposición epitaxial de los materiales del semiconductor tales como silicio y germanio.   Deposición: El hidrógeno se puede dopar en las películas del silicio para hacer su estructura atómica más desordenada, ayudando a aumentar resistencia.   Limpieza del plasma: El plasma del hidrógeno es particularmente eficaz en la eliminación de la contaminación de la lata de las fuentes de luz usadas en litografía ULTRAVIOLETA.   Argón   El argón es otro gas noble, así que exhibe la misma reactividad baja que el nitrógeno y el helio. Sin embargo, la energía de la ionización baja del argón hace útil en usos del semiconductor. Debido a su facilidad relativa de la ionización, el argón es de uso general como el gas primario del plasma para el grabado de pistas y reacciones de la deposición en la fabricación del semiconductor. Además de esto, el argón también se utiliza en los lasers del excímero para la litografía ULTRAVIOLETA.   Porqué materias de la pureza   Típicamente, los avances en tecnología de semiconductor se han alcanzado con el escalamiento del tamaño, y la nueva generación de tecnología de semiconductor es caracterizada por tamaños de característica más pequeños. Esto rinde ventajas múltiples: más transistores en un volumen dado, corrientes mejoradas, un consumo de una energía más baja y una transferencia más rápida.   Sin embargo, como las disminuciones del tamaño crítico, los dispositivos de semiconductor llegan a ser cada vez más sofisticados. En un mundo donde está muy apretada la posición de las materias individuales de los átomos, umbrales de la tolerancia de falta. Como consecuencia, los procesos modernos del semiconductor requieren los gases de proceso con la pureza más alta posible. WOFLY es una empresa de alta tecnología que se especializa en dirigir del sistema de aplicación del gas: sistema de gas especial electrónico, sistema de circuito del gas del laboratorio, sistema de suministro de gas centralizado industrial, sistema (líquido) a granel del gas, sistema aflautado secundario del gas de la pureza elevada y del gas del proceso especial, sistema de envío químico, circuito de agua puro para proporcionar una serie completa dirigir y servicios técnicos y productos ancilares del planeamiento asesor, total técnico, diseño de sistemas, seleccionando el equipo, los componentes prefabricados, la instalación y la construcción del sitio del proyecto, la prueba del sistema total, mantenimiento y otros productos favorables de una manera integrada.

Organizado por el instituto de investigación del laboratorio de ideas de los empresarios de los extranjeros de origen chino de Shenzhen, Malasia Chiu Chow Chamber del comercio y de la industria y del grupo de Guangdong Qidian, celebrarán a los “empresarios de los extranjeros de origen chino favorablemente 2023 (Kuala Lumpur) exposiciones de la tecnología de Smart” en el World Trade Center en Kuala Lumpur, Malasia del 16 al 18 de junio, con más de 2.000 nuevos productos chinos de la tecnología en la exhibición. 6,24 - 6,26 la expo elegante de la tecnología en Bangkok, en donde los expositores chinos discutirán el mercado y las oportunidades para los productos elegantes de la tecnología con los hombres de negocios tailandeses. Durante la exposición, los centenares de nuevos productos elegantes chinos de la energía y las tecnologías serán presentados. Conducido por la política y el mercado en China y Malasia, la comercialización del nuevo almacenamiento de energía está acelerando y tiene espacio comercial enorme del desarrollo. Esta exposición recopilará tendencias puntas y la información de producto de la nueva industria del almacenamiento de energía y ayudará a socios de la industria a encontrar a proveedores por aguas arriba y rio abajo convenientes. Para las fábricas tradicionales y los campos industriales relacionados en necesidad urgente de la transformación tecnológica y actualizar de compradores, esta exposición es llena de atracciones, mucho seguridad y el equipo de la automatización, el sistema electrónico de la automatización del gas, la maquinaria automatizada y los proveedores ahorros de energía del equipo aparecerán en la exposición, mostrar toda clase de automatización, la precisión y soluciones industriales inteligentes. Como integrador de sistema de aplicación profesional del gas con una buena reputación en China, su negocio cubre: el sistema de gas especial electrónico de la pureza ultraalta, el sistema de gas del laboratorio, sistema (líquido) a granel del gas, sistema de suministro de gas centralizado industrial, sistema aflautado secundario del gas del proceso especial, sistema de envío químico, circuito de agua puro, proporcionando la consulta técnica, planeamiento total, diseño de sistemas, equipo seleccionado, componentes prefabricados, instalación y construcción del sitio del proyecto, prueba del sistema total, mantenimiento y otros servicios que dirigen completos y apoyando productos, el proyecto cubre el semiconductor, el circuito integrado, la pantalla plana, la energía, nano fotoeléctrico, nuevo, de fibra óptica, microelectrónica, los laboratorios petroquímicos, biomédicos, diversos, los institutos de investigación, prueba estándar y otras industrias de alta tecnología para proveer de clientes una serie completa de medios de gran pureza soluciones del sistema de envío; se convierte gradualmente el proveedor principal del sistema total de la industria. Esta exposición, los objetos expuestos dominantes tiene investigación y desarrollo independiente nacional y la producción de válvulas de diafragma ultraaltas del grado de la pureza BA/EP, de reguladores en el mercado malasio y de mercado asiático suroriental por casi 10 años de ventas prueba, confianza profunda del cliente. Al mismo tiempo el uso del semiconductor nacional y de las empresas fotovoltaicas ha sido reconocido y respetado por la mayoría de clientes. Realice la primera opción de los productos nacionales de alta calidad para substituir productos importados, pero también para la fabricación china en mercados de ultramar para añadir una nueva tarjeta de visita. Los clientes in situ prestaron atención muy alta al producto, el organizador se entrevistó con la tecnología de Wofei en sitio, Sr. He describió el mercado de producto en Malasia y la ruta estratégica de la correa y del camino al reportero, y elaboró en el precio y la calidad de nuestros productos, expresando confianza en el mercado de ultramar. La entrevista entonces fue divulgada en los medios relevantes. Los productos de la tecnología de Woflyi en Asia sudoriental y Rusia recibieron a muchos clientes como, para una comprensión más profundizada, los clientes de ultramar han venido a China visitar e intercambiar. Foto del grupo de los clientes rusos   Foto del grupo de clientes malasios en la rama de Hunan Por este motivo, Wofei hace esfuerzos adicionales para hacer cada detalle de las colocaciones de cada de la pureza elevada válvula de gas para asegurar la seguridad y la confiabilidad de cada escenario del uso. Así como alta limpieza el VCR micro-soldó con autógena las colocaciones, las colocaciones secundarias de la válvula, las válvulas de la energía de hidrógeno, el etc.; el equipo y las colocaciones especiales (dispositivo del gas de la transferencia del fregadero de GC/GR/VMB/VMP/VDB/VDP/gas) se exhiben en esta exposición, los detalles específicos pueden buscar la página web oficial de la tecnología de Wolfei para aprender más.

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Como industria dominante del desarrollo nacional, la industria del semiconductor está resonando, y en el proceso de producción de los productos de semiconductor, solamente asegurando la estabilidad de la calidad de empaquetado podemos garantizar la producción y la confiabilidad finales de circuitos integrados. 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El sistema de gas especial consiste en tres porciones: el equipo especial del gas, el gaseoducto y el terminal especial, y el gabinete especial del gas es el equipo de la base del sistema de gas especial.   El gabinete completamente automático del gas de AFKLOK con el PLC como el cuerpo del control principal, con la pantalla táctil para la exhibición y el ajuste del sistema, con diversa placa diseña cubrir las necesidades de la energía solar, industria del semiconductor, y tiene: operación simple, alta compatibilidad del software de control, alta estabilidad de sistema, función completa del expediente de la alarma, etc. El gabinete especial del gas puede apoyar la red o atando con alambre dos maneras de señalar salida, el sistema de control del gabinete del cilindro de gas puede ser toda la situación, incluyendo la información de la alarma de la condición de la operación, el valor de la presión al suministrar el gas, el etc., se puede cargar al control central por la red o el hardware. El sistema de control del gabinete del gas (sistema de control del hidrógeno) se puede gestionar y controlar remotamente mediante la red, aumentando la conveniencia y la seguridad de la operación. La ingeniería de sistemas especial de gas es una importante y el proyecto peligroso, gabinete especial del gas es el equipo de la base la mayor parte de las funciones, ingeniería de sistemas especial de gas es incompleto sin el gabinete especial del gas. Tecnología de AFKLOK para ayudar a la mayoría de clientes en el proceso de producción a solucionar la conveniencia y las cuestiones de seguridad operativas difíciles combinar las dificultades, de la calidad del producto a la planificación de empresas para hacer un esfuerzo completo para romperse gradualmente con las dificultades, alcanzar la agregación de los servicios de calidad, para proporcionar un programa de servicio todo en uno para hacer frente a diversos escenarios del uso, convenientes para la diferenciación, para el crecimiento de la productividad de la empresa para empujar la onda.   AFKLOK desarrolló independientemente reguladores, las válvulas de diafragma se utilizan en diversos campos y son respetadas por los clientes. Durante mucho tiempo, la tecnología de AFKLOK ha estado entendiendo profundamente la demanda de mercado, tomando la innovación técnica como fuerte apoyo, cultivando la industria, constantemente innovando y actualizando la tecnología y el proceso, adaptándose a la demanda del mercado gradualmente en desarrollo para la nueva tecnología con los productos de alta calidad y la tecnología innovadora. En la era de desarrollo rápido de la industria, una calidad del producto más alta es un factor importante para que las empresas aumenten su competitividad de la base. La tecnología de Wofei también reconoce verdad que la calidad es la piedra angular de la supervivencia de la empresa y la seguridad es la garantía del desarrollo de la compañía. La tecnología de Wofei se dedica al profesionalismo, a la responsabilidad y a la integridad, y se determina para convertirse en un integrador de sistema de envío inteligente de gama alta principal del gas en la industria petrolera de gran pureza.  

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