Noticias de la compañía Innovación en Tecnologías de Recubrimiento al Vacío e Ingeniería de Superficies
Resumen
Centrada en el tema central de “Innovación en Tecnologías de Recubrimiento al Vacío e Ingeniería de Superficies,” la 7ª Conferencia de Intercambio de Tecnología de Vacío comenzó oficialmente hoy en Shenzhen.
Guiada por el principio fundamental de “Romper las Barreras Técnicas y Fomentar la Sinergia Industrial,” esta conferencia presenta sesiones de intercambio centradas en tres temas clave: Deposición de Capas Atómicas (ALD), Deposición Química de Vapor (CVD) y Recubrimientos a base de carbono DLC/Ta-C.
Reuniendo a expertos internacionales de la academia, la industria y las instituciones de investigación junto con líderes técnicos de empresas líderes, la conferencia profundizará en los últimos avances en tecnologías clave, vías para la implementación industrial y desafíos centrales de la industria. Su objetivo es establecer una plataforma integrada para el “intercambio técnico, la coincidencia de recursos y la transformación de logros,” empoderando la tecnología de vacío para lograr una integración profunda y una aplicación generalizada en sectores críticos como los semiconductores, la nueva energía y los materiales avanzados.
1. ALD/CVD “Control de Precisión” Resuelve el Rompecabezas
La selección de válvulas para sistemas ALD/CVD requiere no solo cumplir con las especificaciones fundamentales, sino también alinearse con los detalles del proceso. Lograr un avance de “aceptable a premium” en el recubrimiento al vacío y la ingeniería de superficies depende del “control de precisión a nivel de micras” en los procesos ALD/CVD, donde la velocidad de respuesta de la válvula y la estabilidad del sistema de gases especiales determinan directamente la uniformidad, la pureza y las tasas de rendimiento del recubrimiento.
En los procesos de recubrimiento al vacío, el rendimiento del equipo de control de fluidos es crítico. Nuestros productos sobresalen en velocidad de respuesta, tasa de fugas y resistencia a la temperatura. Los equipos que cuentan con un cuerpo de válvula de acero inoxidable de grado 316L EP con sellos de PTFE logran una tasa de fugas ≤1×10⁻¹² Pa·m³/s, cumpliendo con los requisitos del proceso ALD. Nuestras válvulas multi-orificio, diseñadas para aplicaciones de recubrimiento ALD a alta temperatura, soportan temperaturas elevadas al tiempo que optimizan la eficiencia de purga para minimizar los efectos de los precursores residuales en la calidad del recubrimiento.
Nuestros cuerpos de válvula están construidos con conjuntos de válvulas resistentes a la corrosión que contienen más del 25% de aleación de cromo-níquel-molibdeno. El proceso CVD asegura una operación continua y a largo plazo sin corrosión ni fugas. Con respecto al control del flujo, su sistema de control de enclavamiento de múltiples válvulas mantiene la desviación del flujo dentro de ±0.2%, superando significativamente el estándar de precisión promedio de la industria de ±0.3%. Esto resuelve eficazmente el desafío de la industria de “las fluctuaciones del flujo que causan la desviación del espesor del recubrimiento.”
La “limpieza, estabilidad y trazabilidad” de las tuberías de gases especiales sirven como la salvaguarda invisible para los procesos de recubrimiento al vacío.
Limpieza de Tuberías
La limpieza de las paredes internas de las tuberías debe controlarse estrictamente. Con este fin, hemos establecido un sistema integral de gestión de la limpieza que abarca “limpieza, soldadura, purga e inspección.” Mediante el empleo de un proceso que combina “limpieza ultrasónica + purga de nitrógeno de alta pureza + tratamiento de pasivación,” el valor Ra de las paredes internas de las tuberías logra consistentemente 0.35μm.
Coincidencia precisa según la clasificación de presión
Las presiones de las tuberías varían significativamente en diferentes escenarios de recubrimiento al vacío (ALD típicamente oscila entre 10⁻³ y 10⁻⁵ Pa, mientras que CVD opera comúnmente a 0.1 a 0.5 MPa), lo que requiere métodos de conexión compatibles con la clasificación de presión.
· Baja presión (≤0.3 MPa): Conexiones de doble férula
· Alta presión (≥0.5 MPa): Soldadura TIG automática
· Vacío ultra alto (≤1e-4 Pa): Bridas selladas con metal
Equilibrio Dinámico de Presión
El suministro de gas pulsado en el proceso ALD causa fluctuaciones de presión en las tuberías. Si las fluctuaciones exceden ±0.02 MPa, la estabilidad de la concentración del precursor se ve comprometida. Al ajustar el regulador de presión aguas arriba, controlamos las fluctuaciones de presión de entrada a ±0.005 MPa. Combinado con la regulación de retroalimentación en tiempo real de un sensor de presión de alta precisión con una precisión de ±0.1% FS, finalmente logramos fluctuaciones de presión en las tuberías ≤±0.003 MPa, asegurando una concentración consistente de inyección de pulsos ALD.
Los equipos de gases especiales deben pasar de la “operación aislada” a la “integración profunda con el proceso.”
Los procesos CVD típicamente requieren la mezcla de 2-4 gases en proporciones fijas. Por lo tanto, empleamos controladores de flujo másico (MFC) de alta precisión líderes a nivel internacional con una precisión de medición de ±0.05% FS, lo que garantiza una estabilidad y fiabilidad excepcionales en el control del flujo de fluidos. Equipados con nuestro algoritmo de mezcla patentado, estos controladores monitorean y compensan continuamente los efectos de las fluctuaciones de temperatura y presión del gas en los parámetros de flujo.
Los gases de escape generados por el proceso CVD deben cumplir con los estándares de emisión. Empleamos un sistema integrado de tratamiento de gases de escape.
Etapa de Adsorción en Seco: Equipado con adsorbentes especializados altamente selectivos, este sistema de adsorción de múltiples etapas logra una eficiencia de adsorción ultra alta de ≥99.9%. Etapa de Incineración: Para compuestos orgánicos complejos y difíciles de degradar, se crea un entorno de pirólisis a alta temperatura. Combinado con la tecnología de mejora de la combustión turbulenta, esto logra una tasa de descomposición profunda de ≥99.99%, eliminando por completo el riesgo de contaminantes orgánicos.
Sistema Integrado de “Gabinete de Gases Especiales + Tuberías + Equipos”
Para minimizar los puntos de interfaz y reducir los riesgos de fugas, ofrecemos una solución integrada. Desde el diseño del gabinete de gases especiales (incluyendo purificación, distribución y controles de seguridad) hasta la soldadura de tuberías y la integración de equipos de tratamiento de gases de escape, todo el proceso es ejecutado profesionalmente por un solo equipo.
Aprovechando la Asociación como Puente para Avanzar en la Tecnología de la Industria
Esta conferencia sobre “Innovación en Tecnología de Recubrimiento al Vacío e Ingeniería de Superficies” sirve no solo como una plataforma para el intercambio tecnológico en toda la industria, sino que también ejemplifica el compromiso de Wofei Technology de profundizar las conexiones de la industria y avanzar en la “fabricación impulsada por la tecnología.”
En el futuro, continuaremos aprovechando la Asociación de la Industria de Tecnología de Vacío como puente, centrándonos en los requisitos de control de fluidos para procesos centrales como ALD/CVD. ¡Nuestro objetivo es impulsar la implementación de más innovaciones tecnológicas, impulsando la tecnología de recubrimiento al vacío e ingeniería de superficies hacia una nueva era de mayor precisión y mayor seguridad!
